光学临近修正方法、装置、存储介质及电子设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411931421.6

申请日：

2024-12-26

公开(公告)号：

CN119356021B

公开(公告)日：

2025-04-08

发明(设计)人：

李丹颖伍文明吴士侠

申请人：

华芯程（杭州）科技有限公司

申请人地址：

310000 浙江省杭州市余杭区良渚街道网周路99号1幢22层2208室

IPC主分类号：

G03F1/36

IPC分类号：

G03F7/20

代理机构：

深圳市嘉勤知识产权代理有限公司 44651

代理人：

刘婧

法律状态：

授权

国省代码：

山西省临汾市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-08	授权	授权
2025-02-18	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/36申请日:20241226
2025-01-24	公开	公开

共 50 条

[1]

光学临近修正方法、装置、存储介质及电子设备 [P].

李丹颖 ;

伍文明 ;

吴士侠 .

中国专利 :CN119356021A ,2025-01-24

[2]

光学临近修正方法及其装置、存储介质和电子设备 [P].

王兰芳 ;

崔淼 ;

陈巧丽 ;

黄宜斌 .

中国专利 :CN118259536A ,2024-06-28

[3]

光学临近修正方法、装置、电子设备及介质 [P].

朱凯民 .

中国专利 :CN120821144A ,2025-10-21

[4]

光学临近修正方法、装置及电子设备 [P].

刘秀梅 ;

罗招龙 ;

赵广 .

中国专利 :CN114609858A ,2022-06-10

[5]

光学临近修正方法、装置及电子设备 [P].

王康 ;

罗招龙 ;

林建佑 ;

李可玉 ;

赵广 .

中国专利 :CN113253565A ,2021-08-13

[6]

光学临近修正优化方法、装置、存储介质及电子设备 [P].

舒中力 .

中国专利 :CN119668019B ,2025-05-30

[7]

光学临近修正优化方法、装置、存储介质及电子设备 [P].

舒中力 .

中国专利 :CN119668019A ,2025-03-21

[8]

一维图案的光学临近修正方法、存储介质、电子设备 [P].

敖振宇 ;

曾鼎程 ;

陈咏翔 ;

范富杰 ;

胡展源 .

中国专利 :CN119987157A ,2025-05-13

[9]

光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备 [P].

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN120722646A ,2025-09-30

[10]

光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备 [P].

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN120215202B ,2025-08-05

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