基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、及びプログラム[ja]

被引:0
申请号
JP20230173802
申请日
2023-10-05
公开(公告)号
JP2025064221A
公开(公告)日
2025-04-17
发明(设计)人
USUKI KENSHIRO IKEDA YUMA NAKAGAWA RYUICHI YAMAZAKI HIROHISA
申请人
KOKUSAI ELECTRIC CORP
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/302
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[3]
基板処理装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008016143A1 ,2009-12-24
[4]
処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019186616A1 ,2021-04-08
[7]
基板処理装置及び基板処理方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013175897A1 ,2016-01-12
[8]
基板処理方法及び基板処理装置[ja] [P]. 
SHINDO NAOKI ;
MATSUNAGA JUNICHIRO .
日本专利 :JP2024044815A ,2024-04-02
[9]
基板処理方法及び基板処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025154217A ,2025-10-10
[10]
プラズマ処理装置及び基板処理方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025172575A ,2025-11-26