相位差膜的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110285610.0

申请日：

2021-03-17

公开(公告)号：

CN113492519B

公开(公告)日：

2025-04-29

发明(设计)人：

柳沼宽教石井孝证铃木广太

申请人：

日东电工株式会社

申请人地址：

日本大阪

IPC主分类号：

B29C55/08

IPC分类号：

B29C35/02 G02B5/30 G02F1/13363 B29L11/00

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

陈建全

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-29	授权	授权

共 50 条

[1]

相位差膜的制造方法 [P].

柳沼宽教 ;

石井孝证 ;

铃木广太 .

中国专利 :CN113492519A ,2021-10-12

[2]

相位差膜的制造方法 [P].

饭田敏行 ;

清水享 ;

村上奈穗 ;

宇和田一贵 ;

小岛理 .

中国专利 :CN104094142B ,2014-10-08

[3]

相位差膜的制造方法 [P].

高畑弘明 ;

高桥义则 ;

日野享子 .

中国专利 :CN101802662A ,2010-08-11

[4]

相位差膜的制造方法 [P].

井上恭辅 .

日本专利 :CN114868053B ,2025-05-13

[5]

相位差膜的制造方法 [P].

有贺草平 .

中国专利 :CN113524742A ,2021-10-22

[6]

相位差膜的制造方法 [P].

井上恭辅 .

中国专利 :CN114868053A ,2022-08-05

[7]

相位差膜的制造方法 [P].

有贺草平 .

日本专利 :CN113524742B ,2025-08-22

[8]

相位差膜的制造方法 [P].

村冈敦史 ;

清水享 ;

平田聪 .

中国专利 :CN105785492A ,2016-07-20

[9]

相位差膜的制造方法 [P].

中居真一 .

中国专利 :CN101713841A ,2010-05-26

[10]

相位差膜、带相位差层的偏振片及相位差膜的制造方法 [P].

小岛理 ;

柳沼宽教 ;

饭田敏行 .

日本专利 :CN110858011B ,2024-05-31

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