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半导体制造设备、半导体制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411998866.6
申请日：
2024-12-31
公开(公告)号：
CN119920738A
公开(公告)日：
2025-05-02
发明(设计)人：
宓晓宇
高桥岳雄
申请人：
甬江实验室
申请人地址：
315201 浙江省宁波市镇海区骆驼街道慈海南路1792号
IPC主分类号：
H01L21/673
IPC分类号：
H01L21/677
代理机构：
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201
代理人：
王桂珍
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-05-20 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/673申请日:20241231 |
| 2025-05-02 | 公开 | 公开 |