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图像处理方法、装置及系统、存储介质和学习模型制造方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202011022610.3
申请日：
2020-09-25
公开(公告)号：
CN112581382B
公开(公告)日：
2025-04-25
发明(设计)人：
小林正和
申请人：
佳能株式会社
申请人地址：
日本东京都大田区下丸子3-30-2
IPC主分类号：
G06T5/80
IPC分类号：
G06T5/60 G06T5/20 G06N20/00 G06N3/084 G06N3/0464
代理机构：
北京怡丰知识产权代理有限公司 11293
代理人：
迟军;高华丽
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-04-25 授权 授权
共 50 条
[1]
图像处理方法、装置及系统、存储介质和学习模型制造方法 [P]. 
小林正和 .
日本专利 :CN120219177A ,2025-06-27
[2]
图像处理方法、装置及系统、存储介质和学习模型制造方法 [P]. 
小林正和 .
中国专利 :CN112581382A ,2021-03-30
[3]
图像处理方法、图像处理装置、学习装置、经学习的模型的制造方法、以及存储介质 [P]. 
木村良范 .
日本专利 :CN117372442A ,2024-01-09
[4]
图像处理方法、图像处理装置、存储介质、图像处理系统及已学习模型制造方法 [P]. 
日浅法人 .
中国专利 :CN111753869A ,2020-10-09
[5]
图像处理方法、图像处理装置、存储介质、图像处理系统及已学习模型制造方法 [P]. 
日浅法人 .
日本专利 :CN111753869B ,2025-03-11
[6]
图像处理方法、图像处理装置、存储介质、图像处理系统及已学习模型制造方法 [P]. 
日浅法人 .
日本专利 :CN120107674A ,2025-06-06
[7]
图像处理方法、装置、系统、存储介质和学习模型制造法 [P]. 
日浅法人 .
中国专利 :CN111669522A ,2020-09-15
[8]
图像处理方法、装置、系统、存储介质和学习模型制造法 [P]. 
日浅法人 .
日本专利 :CN111669522B ,2024-11-01
[9]
图像处理方法、装置、系统、存储介质和学习模型制造法 [P]. 
日浅法人 .
日本专利 :CN119402762A ,2025-02-07
[10]
图像处理方法、图像处理装置、学习方法、学习装置、以及存储介质 [P]. 
日浅法人 .
中国专利 :CN114170073A ,2022-03-11
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