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被配置为使用飞行时间成像和立体成像的成像系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510262335.9
申请日
:
2020-10-28
公开(公告)号
:
CN120103367A
公开(公告)日
:
2025-06-06
发明(设计)人
:
M·欧
申请人
:
微软技术许可有限责任公司
申请人地址
:
美国华盛顿州
IPC主分类号
:
G01S17/894
IPC分类号
:
H04N13/271
H04N23/67
H04N25/705
G01S17/10
G01S17/36
G01S7/481
代理机构
:
北京世辉律师事务所 16093
代理人
:
林程程
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-06-06
公开
公开
2025-06-24
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G01S 17/894申请日:20201028
共 50 条
[1]
被配置为使用飞行时间成像和立体成像的成像系统
[P].
M·欧
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
M·欧
.
中国专利
:CN114730013A
,2022-07-08
[2]
被配置为使用飞行时间成像和立体成像的成像系统
[P].
M·欧
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
微软技术许可有限责任公司
微软技术许可有限责任公司
M·欧
.
美国专利
:CN114730013B
,2025-03-28
[3]
飞行时间成像电路、飞行时间成像系统和飞行时间成像方法
[P].
曼努埃尔·阿马亚·贝尼特斯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
曼努埃尔·阿马亚·贝尼特斯
.
中国专利
:CN114829970A
,2022-07-29
[4]
飞行时间成像电路、飞行时间成像系统、飞行时间成像方法
[P].
弗拉迪米尔·兹洛科利察
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
弗拉迪米尔·兹洛科利察
;
亚历克斯·卡莫维奇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
亚历克斯·卡莫维奇
.
日本专利
:CN114761825B
,2025-05-30
[5]
飞行时间成像电路、飞行时间成像系统、飞行时间成像方法
[P].
弗拉迪米尔·兹洛科利察
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
弗拉迪米尔·兹洛科利察
;
亚历克斯·卡莫维奇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
亚历克斯·卡莫维奇
.
中国专利
:CN114761825A
,2022-07-15
[6]
飞行时间传感器、飞行时间系统和成像系统
[P].
中川庆
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
索尼集团公司
索尼集团公司
中川庆
;
戈兰·泽图尼
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
索尼集团公司
索尼集团公司
戈兰·泽图尼
;
兹维卡·维格
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
索尼集团公司
索尼集团公司
兹维卡·维格
.
日本专利
:CN114829969B
,2025-07-18
[7]
飞行时间成像器
[P].
彼得勒斯.G.M.森滕
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
彼得勒斯.G.M.森滕
;
尼古拉斯.J.达姆斯特拉
论文数:
0
引用数:
0
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0
尼古拉斯.J.达姆斯特拉
;
杰罗恩.罗特
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
杰罗恩.罗特
;
朱尔.范登海杰坎特
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
朱尔.范登海杰坎特
.
中国专利
:CN102346250B
,2012-02-08
[8]
混合飞行时间和成像器模块
[P].
C.奥纳尔
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
伟摩有限责任公司
伟摩有限责任公司
C.奥纳尔
;
D.施勒宁
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
伟摩有限责任公司
伟摩有限责任公司
D.施勒宁
;
B.赫尔马林
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
伟摩有限责任公司
伟摩有限责任公司
B.赫尔马林
;
S.维格斯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
伟摩有限责任公司
伟摩有限责任公司
S.维格斯
;
A.麦考利
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
伟摩有限责任公司
伟摩有限责任公司
A.麦考利
;
B.怀特
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
伟摩有限责任公司
伟摩有限责任公司
B.怀特
;
U.齐林斯基
论文数:
0
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0
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0
机构:
伟摩有限责任公司
伟摩有限责任公司
U.齐林斯基
.
美国专利
:CN112534303B
,2024-06-04
[9]
混合飞行时间和成像器模块
[P].
C.奥纳尔
论文数:
0
引用数:
0
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0
C.奥纳尔
;
D.施勒宁
论文数:
0
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0
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0
D.施勒宁
;
B.赫尔马林
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0
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0
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0
B.赫尔马林
;
S.维格斯
论文数:
0
引用数:
0
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0
S.维格斯
;
A.麦考利
论文数:
0
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0
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0
A.麦考利
;
B.怀特
论文数:
0
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0
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0
B.怀特
;
U.齐林斯基
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
U.齐林斯基
.
中国专利
:CN112534303A
,2021-03-19
[10]
飞行时间深度成像系统的内置校准
[P].
C·麦瑟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
美国亚德诺半导体公司
美国亚德诺半导体公司
C·麦瑟
;
B·C·唐纳利
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
美国亚德诺半导体公司
美国亚德诺半导体公司
B·C·唐纳利
;
N·勒多特兹
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
美国亚德诺半导体公司
美国亚德诺半导体公司
N·勒多特兹
;
S·迪米尔达斯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
美国亚德诺半导体公司
美国亚德诺半导体公司
S·迪米尔达斯
.
美国专利
:CN111308449B
,2024-04-05
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