一种铝电解槽分区域氧化铝非均匀下料系统和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510227921.X

申请日：

2025-02-28

公开(公告)号：

CN119956431A

公开(公告)日：

2025-05-09

发明(设计)人：

张钦菘胡红武王旋侯金龙孔晔许立松

申请人：

沈阳铝镁设计研究院有限公司

申请人地址：

110001 辽宁省沈阳市和平区和平北大街184号

IPC主分类号：

C25C3/20

IPC分类号：

C25C3/14 C25C3/08

代理机构：

沈阳新科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21117

代理人：

何军

法律状态：

公开

国省代码：

辽宁省沈阳市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-09	公开	公开
2025-05-27	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C25C 3/20申请日:20250228

共 50 条

[1]

一种铝电解槽氧化铝下料系统 [P].

张红亮 ;

杨帅 ;

李劼 ;

邹忠 ;

丁凤其 ;

赖延清 .

中国专利 :CN102719854B ,2012-10-10

[2]

一种铝电解槽氧化铝下料装置 [P].

张红亮 ;

杨帅 ;

李劼 ;

邹忠 ;

丁凤其 ;

赖延清 .

中国专利 :CN202626312U ,2012-12-26

[3]

一种提高铝电解槽氧化铝下料均匀性的方法 [P].

黄海波 ;

罗丽芬 ;

王俊青 ;

柴登鹏 ;

李强 ;

刘秀 .

中国专利 :CN106319572B ,2017-01-11

[4]

一种铝电解槽的氧化铝下料方法 [P].

黄海波 ;

罗丽芬 ;

王俊青 ;

柴登鹏 ;

李强 ;

刘秀 .

中国专利 :CN106319573A ,2017-01-11

[5]

一种铝电解槽氧化铝下料装置 [P].

卫莉婷 ;

王杰 ;

鱼银虎 ;

焦姣 ;

弓巧娟 .

中国专利 :CN208501120U ,2019-02-15

[6]

一种铝电解槽非均匀下料方法 [P].

张红亮 ;

梁金鼎 ;

杨帅 ;

李劼 ;

丁凤其 .

中国专利 :CN105839145A ,2016-08-10

[7]

氧化铝电解槽装置 [P].

陈才荣 .

中国专利 :CN103225089A ,2013-07-31

[8]

氧化铝电解槽装置 [P].

陈才荣 .

中国专利 :CN202465897U ,2012-10-03

[9]

一种氧化铝电解槽长间隔式打壳下料方法 [P].

徐阳 .

中国专利 :CN102534678A ,2012-07-04

[10]

一种准连续下料式氧化铝电解槽的打壳下料方法 [P].

徐阳 .

中国专利 :CN102534679A ,2012-07-04

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