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视差图处理、深度学习模型训练方法及相关设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202011018154.5
申请日：
2020-09-24
公开(公告)号：
CN114255268B
公开(公告)日：
2025-05-27
发明(设计)人：
孟俊彪
胡锦丽
申请人：
武汉TCL集团工业研究院有限公司
申请人地址：
430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道999号未来科技大厦8层
IPC主分类号：
G06T7/55
IPC分类号：
G06N3/0464
G06N3/048
G06N3/08
代理机构：
深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414
代理人：
李木燕
法律状态：
授权
国省代码：
湖北省
武汉市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-05-27 | 授权 | 授权 |