离子源、质谱仪、离子源控制方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080096365.2

申请日：

2020-12-04

公开(公告)号：

CN115104173B

公开(公告)日：

2025-05-16

发明(设计)人：

长谷川英树杉山益之桥本雄一郎

申请人：

株式会社日立高新技术

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J49/04

IPC分类号：

H01J49/16 G01N27/62

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

钟晶;陈彦

法律状态：

授权

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-16	授权	授权

共 50 条

[1]

离子源、质谱仪、离子源控制方法 [P].

长谷川英树 ;

杉山益之 ;

桥本雄一郎 .

中国专利 :CN115104173A ,2022-09-23

[2]

离子源腔体、离子源和质谱仪 [P].

黄晓圳 ;

施继坚 ;

黄飞鸿 ;

江高雄 ;

吴思瑶 .

中国专利 :CN217214635U ,2022-08-16

[3]

离子源及质谱仪 [P].

许鸣皋 ;

张成 ;

杨蒙 ;

刘成园 .

中国专利 :CN118197898A ,2024-06-14

[4]

离子源及质谱仪 [P].

喻佳俊 ;

朱星高 ;

刘平 ;

曾真 ;

代新 ;

陈颖 .

中国专利 :CN107895684A ,2018-04-10

[5]

外壳（质谱仪离子源） [P].

刘力源 ;

张坤 ;

蔡克亚 ;

张瑞峰 ;

赵亚坤 ;

张健 .

中国专利 :CN308583751S ,2024-04-16

[6]

离子源及质谱仪 [P].

喻佳俊 ;

朱星高 ;

刘平 ;

曾真 ;

代新 ;

陈颖 .

中国专利 :CN107895684B ,2024-03-26

[7]

离子源和质谱仪 [P].

艾德里安·兰德 ;

斯图尔特·C·汉森 .

中国专利 :CN203386713U ,2014-01-08

[8]

离子源及质谱仪 [P].

陈应庄 ;

周聪 .

中国专利 :CN118522627A ,2024-08-20

[9]

离子源及质谱仪 [P].

喻佳俊 ;

朱星高 ;

刘平 ;

曾真 ;

代新 ;

陈颖 .

中国专利 :CN207781533U ,2018-08-28

[10]

质谱仪离子源喷雾装置 [P].

周良 ;

吴先伟 ;

官培龙 ;

吴峰 .

中国专利 :CN109801833A ,2019-05-24

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