聚酰亚胺前体、聚酰亚胺前体组合物、聚酰亚胺膜、其制备方法及其用途

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110789728.7

申请日：

2021-07-13

公开(公告)号：

CN113929907B

公开(公告)日：

2025-05-13

发明(设计)人：

金钟灿李韶英

申请人：

SK新技术株式会社爱思开高新信息电子材料株式会社

申请人地址：

韩国首尔

IPC主分类号：

C08G73/10

IPC分类号：

C08L79/08 C08J5/18 B32B27/28 B32B27/06

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司 11002

代理人：

蒋洪之;李新娜

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-13	授权	授权

共 50 条

[1]

聚酰亚胺前体、聚酰亚胺前体组合物、聚酰亚胺膜、其制备方法及其用途 [P].

金钟灿 ;

李韶英 .

中国专利 :CN113929907A ,2022-01-14

[2]

聚酰亚胺前体、聚酰亚胺前体组合物、聚酰亚胺膜、其制造方法以及其用途 [P].

郑闵先 ;

郭孝信 ;

李周炫 .

中国专利 :CN114133563A ,2022-03-04

[3]

聚酰亚胺前体组合物和聚酰亚胺膜 [P].

冈卓也 ;

根本雄基 ;

伊藤太一 .

日本专利 :CN118176258A ,2024-06-11

[4]

聚酰亚胺前体组合物、聚酰亚胺膜和聚酰亚胺膜/基材层积体 [P].

冈卓也 ;

根本雄基 ;

小滨幸德 ;

伊藤太一 .

日本专利 :CN118139913B ,2025-04-29

[5]

聚酰亚胺前体组合物、聚酰亚胺膜和聚酰亚胺膜/基材层积体 [P].

冈卓也 ;

根本雄基 ;

小滨幸德 ;

伊藤太一 .

日本专利 :CN118139913A ,2024-06-04

[6]

聚酰亚胺前体组合物、聚酰亚胺膜和聚酰亚胺膜/基材层积体 [P].

冈卓也 ;

根本雄基 ;

小滨幸德 ;

伊藤太一 .

日本专利 :CN120059184A ,2025-05-30

[7]

聚酰亚胺前体组合物、聚酰亚胺膜和聚酰亚胺膜/基材层积体 [P].

冈卓也 ;

根本雄基 ;

小滨幸德 ;

伊藤太一 .

日本专利 :CN119173585A ,2024-12-20

[8]

聚酰亚胺前体、聚酰亚胺、聚酰亚胺膜、清漆和基板 [P].

冈卓也 ;

小滨幸德 ;

中川美晴 ;

久野信治 .

中国专利 :CN111757904A ,2020-10-09

[9]

聚酰亚胺前体组合物、聚酰亚胺膜及其制备方法 [P].

仲田照典 ;

北川慎也 ;

前田修一 ;

高小放 ;

王志文 .

中国专利 :CN114920931A ,2022-08-19

[10]

聚酰亚胺前体、聚酰亚胺和聚酰亚胺膜 [P].

冈卓也 ;

小滨幸德 ;

久野信治 .

中国专利 :CN107108886B ,2017-08-29

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