一种SiO<sub>2</sub>@TiO<sub>2</sub>/PMMA辐射制冷薄膜及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202510245080.5
申请日
2025-03-04
公开(公告)号
CN119977349A
公开(公告)日
2025-05-13
发明(设计)人
张誉瀚 董梓琪 郭增生 齐方正 杨晓冬 孙一强 李村成
申请人
济南大学
申请人地址
250022 山东省济南市南辛庄西路336号济南大学科技处
IPC主分类号
C03C17/00
IPC分类号
F24F5/00
代理机构
代理人
法律状态
实质审查的生效
国省代码
山东省 济南市
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共 50 条
[1]
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[8]
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