基板处理装置、流体供给系统以及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411678469.0

申请日：

2024-11-22

公开(公告)号：

CN120109044A

公开(公告)日：

2025-06-06

发明(设计)人：

林田贵大中岛干雄森山茂

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

F26B21/00 F26B21/10 F26B21/14 F26B3/04

代理机构：

北京伊普嘉知识产权代理事务所(普通合伙) 16325

代理人：

李海龙;张小珣

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-06	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理装置、流体供给系统以及基板处理方法 [P].

中岛干雄 ;

梅崎翔太 ;

林田贵大 .

日本专利 :CN120033109A ,2025-05-23

[2]

流体供给系统、基板处理装置以及基板处理方法 [P].

林田贵大 ;

梅崎翔太 ;

中岛干雄 .

日本专利 :CN119998929A ,2025-05-13

[3]

流体供给系统、基板处理装置以及流体供给方法 [P].

林田贵大 ;

田中厚嗣 ;

小早川亮 ;

中岛文弥 ;

那须俊文 ;

森山茂 .

日本专利 :CN120453192A ,2025-08-08

[4]

基板处理装置、供给系统、基板处理方法以及供给方法 [P].

八谷洋介 ;

菅野至 ;

中森光则 ;

竹口博史 .

日本专利 :CN117497448A ,2024-02-02

[5]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

桥本光治 ;

波多野章人 ;

林豊秀 ;

土谷庆一 .

中国专利 :CN105470166A ,2016-04-06

[6]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

郑镇优 ;

尹堵铉 ;

李龙熙 .

中国专利 :CN114695172A ,2022-07-01

[7]

基板处理装置、以及基板处理方法 [P].

横山俊夫 ;

平尾智则 ;

对马拓也 ;

大桥弘尭 .

日本专利 :CN113073374B ,2025-03-04

[8]

基板处理装置、以及基板处理方法 [P].

横山俊夫 ;

平尾智则 ;

对马拓也 ;

大桥弘尭 .

中国专利 :CN113073374A ,2021-07-06

[9]

流体供给喷嘴、基板处理装置及基板处理方法 [P].

菅野恒 ;

吉冈弘嗣 .

中国专利 :CN100392819C ,2005-07-13

[10]

流体供给系统、基板处理方法以及记录介质 [P].

林田贵大 ;

中岛干雄 ;

那须俊文 ;

梅崎翔太 ;

山田浩平 .

日本专利 :CN120199701A ,2025-06-24

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