プラズマ評価システム及びプラズマ評価方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20230191368

申请日：

2023-11-09

公开(公告)号：

JP2025078992A

公开(公告)日：

2025-05-21

发明(设计)人：

SHINDO TAKAHISA

申请人：

TOKYO ELECTRON LTD

申请人地址：

IPC主分类号：

H05H1/00

IPC分类号：

H01L21/3065 H05H1/46

代理机构：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

プラズマ着火方法及びプラズマ生成装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020225920A1 ,2021-05-20

[2]

プラズマ処理装置、電源システム、及びプラズマ処理方法[ja] [P].

TAMAMUSHI GEN .

日本专利 :JP2024119243A ,2024-09-03

[3]

嚥下能力評価システム、嚥下能力評価方法及び嚥下能力評価プログラム[ja] [P].

日本专利 :JP6727595B1 ,2020-07-22

[4]

プラズマ処置システム[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015156156A1 ,2017-04-13

[5]

プラズマ源及びプラズマ処理装置[ja] [P].

IKEDA TARO ;

KAMADA HIDEKI .

日本专利 :JP2025056902A ,2025-04-09

[6]

プラズマ源及びプラズマ処理装置[ja] [P].

KAMADA HIDEKI ;

KATO KENTA ;

IKEDA TARO .

日本专利 :JP2025056912A ,2025-04-09

[7]

プラズマ源及びプラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017221832A1 ,2019-04-18

[8]

変調プラズマシステムのためのプラズマ送達システム[ja] [P].

日本专利 :JP2022514377A ,2022-02-10

[9]

プラズマガン、及び、プラズマ加工装置[ja] [P].

IWASE CHIKATSU ;

SUZUKI TATSUHIRO ;

SAKUMA NAOFUMI ;

SUGO TOMOHISA ;

KANO RYO ;

NIIHORI SHUNICHIRO .

日本专利 :JP2024045067A ,2024-04-02

[10]

プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置[ja] [P].

NAGAUMI KOICHI ;

OSHITA TATSURO ;

NAGASEKI KAZUYA ;

HIMORI SHINJI .

日本专利 :JP2022087334A ,2022-06-09

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