二酸化炭素を含むガスを処理するプロセス[ja]

被引:0
申请号
JP20230546390
申请日
2021-10-13
公开(公告)号
JP2023546987A
公开(公告)日
2023-11-08
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C12P5/02
IPC分类号
C02F3/10 C02F3/34 H01M12/08
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
炉頂ガスを処理するプロセスおよび装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2018536830A ,2018-12-13
[3]
調味料成分を処理する高周波プロセス[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019514400A ,2019-06-06
[4]
二酸化炭素除去を含むメタンガス生成装置及び方法[ja] [P]. 
KATSU YOSEI ;
TANAKA TOSHIHIRO ;
KAWASAKI HIROSHI .
日本专利 :JP2024023045A ,2024-02-21
[5]
ガラス基板の表面を処理する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020523277A ,2020-08-06
[6]
ヒ素を含む水溶液を処理する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013187028A1 ,2016-02-04
[7]
水を飲用にするプロセス[ja] [P]. 
日本专利 :JP2016501121A ,2016-01-18
[8]
ガス中の二酸化炭素を効率的に回収する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009001804A1 ,2010-08-26
[9]
6価クロムを含む水溶液を処理する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013187029A1 ,2016-02-04
[10]
再生セルロースを含む布帛[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025537681A ,2025-11-20