光学层叠体、光学层叠体的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510439511.1

申请日：

2021-03-03

公开(公告)号：

CN120134733A

公开(公告)日：

2025-06-13

发明(设计)人：

小林智明黄臻铃木克利铃木嗣人木伏祐子

申请人：

迪睿合株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

B32B15/04

IPC分类号：

G02B1/11 G02B1/113 G02B1/115 G02B1/14 G02B1/18 B32B33/00 B32B37/24 B32B9/04 C23C14/06 B32B38/00

代理机构：

北京挚诚信奉知识产权代理有限公司 11338

代理人：

严星铁;马铁军

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

光学层叠体的制造方法 [P].

铃木嗣人 ;

黄臻 ;

铃木克利 ;

渡边贵久 ;

木伏祐子 ;

小林智明 .

日本专利 :CN120134734A ,2025-06-13

[2]

光学层叠体及光学层叠体的制造方法 [P].

服部大辅 ;

森岛谅太 ;

中村诚 .

日本专利 :CN118900764A ,2024-11-05

[3]

光学层叠体及具备该光学层叠体的物品 [P].

源田尚太郎 ;

吉田升平 ;

严猛 ;

薄井直树 .

日本专利 :CN121002404A ,2025-11-21

[4]

光学层叠体的制造方法和光学层叠体 [P].

松本大辅 ;

铃木到 ;

藤井幹士 .

中国专利 :CN118721939A ,2024-10-01

[5]

光学层叠体的制造方法及光学层叠体 [P].

数家靖央 .

日本专利 :CN118832649A ,2024-10-25

[6]

光学层叠体、光学层叠体的制造方法、光学构件、及光学构件的制造方法 [P].

服部大辅 ;

森岛谅太 ;

中村诚 .

日本专利 :CN118591742A ,2024-09-03

[7]

光学层叠体 [P].

泽友树 .

中国专利 :CN118732123A ,2024-10-01

[8]

光学层叠体及其制造方法 [P].

中井祐树 .

日本专利 :CN120712501A ,2025-09-26

[9]

光学层叠体及其制造方法 [P].

藤长将司 ;

八寻智惠 ;

竹厚流 .

中国专利 :CN101923183B ,2010-12-22

[10]

光学层叠体的制造方法 [P].

羽场康弘 ;

幡中伸行 .

中国专利 :CN109143441A ,2019-01-04

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-01	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B32B 15/04申请日:20210303
2025-06-13	公开	公开