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UVおよびVUVを生成するための光反応器および光源[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230524399
申请日
:
2021-10-20
公开(公告)号
:
JP2023549470A
公开(公告)日
:
2023-11-27
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01J65/04
IPC分类号
:
A61L2/10
B01D53/44
B01D53/60
B01D53/68
C02F1/32
H05H1/24
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
水素を生成するための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025513091A
,2025-04-23
[2]
速度場を推定するための装置および方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023538764A
,2023-09-11
[3]
電力を伝送するための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2017521030A
,2017-07-27
[4]
キャプション生成器を生成するための方法および装置、並びにキャプションを出力するための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7651006B2
,2025-03-25
[5]
キャプション生成器を生成するための方法および装置、並びにキャプションを出力するための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2024512628A
,2024-03-19
[6]
制御された周波数を生成するための発生器および方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022522463A
,2022-04-19
[7]
制御された周波数を生成するための発生器および方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022522215A
,2022-04-14
[8]
制御された周波数を生成するための発生器および方法[ja]
[P].
MICHIEL VAN ELZAKKER
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEMIBLOCKS B V
SEMIBLOCKS B V
MICHIEL VAN ELZAKKER
;
ROB VAN DER VALK
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEMIBLOCKS B V
SEMIBLOCKS B V
ROB VAN DER VALK
;
KEES VAN NIEUWBURG
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEMIBLOCKS B V
SEMIBLOCKS B V
KEES VAN NIEUWBURG
.
日本专利
:JP2025094161A
,2025-06-24
[9]
容量性共振器を校正するための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025503048A
,2025-01-30
[10]
煙を生成および処理する設備[ja]
[P].
日本专利
:JP2016511385A
,2016-04-14
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