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紫外非线性光学材料CdF(C<sub>6</sub>H<sub>4</sub>NO<sub>2</sub>)(H<sub>2</sub>O)及其制备方法和应用

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510255141.6
申请日：
2025-03-05
公开(公告)号：
CN120173002A
公开(公告)日：
2025-06-20
发明(设计)人：
吴奇 苟杰 朱耀龙
申请人：
武汉纺织大学
申请人地址：
430200 湖北省武汉市江夏区阳光大道1号
IPC主分类号：
C07F3/08
IPC分类号：
G02F1/355
代理机构：
武汉领君知识产权代理事务所(普通合伙) 42248
代理人：
汪俊锋
法律状态：
公开
国省代码：
湖北省 武汉市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-06-20 公开 公开
2025-07-08 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C07F 3/08申请日:20250305
共 50 条
[1]
半有机晶体N<sub>2</sub>H<sub>4</sub>Zn(HC<sub>3</sub>N<sub>3</sub>O<sub>3</sub>)及其制备方法和应用 [P]. 
吴奇 ;
杨灿 ;
康雨薇 .
中国专利 :CN119039326B ,2025-04-01
[2]
半有机晶体N<sub>2</sub>H<sub>4</sub>Zn(HC<sub>3</sub>N<sub>3</sub>O<sub>3</sub>)及其制备方法和应用 [P]. 
吴奇 ;
杨灿 ;
康雨薇 .
中国专利 :CN119039326A ,2024-11-29
[3]
Bi<sub>8</sub>O<sub>6</sub>(OH)<sub>4</sub>(SO<sub>4</sub>)(NO<sub>3</sub>)<sub>6</sub>·H<sub>2</sub>O化合物及其晶体、制备方法和应用 [P]. 
彭广 ;
李尊宇 ;
叶宁 .
中国专利 :CN119841346A ,2025-04-18
[4]
(C<sub>10</sub>H<sub>9</sub>N<sub>2</sub>O)<sub>2</sub>SnCl<sub>6</sub>化合物、(C<sub>10</sub>H<sub>9</sub>N<sub>2</sub>O)<sub>2</sub>SnCl<sub>6</sub>双折射晶体及其制法和用途 [P]. 
赵三根 ;
罗军华 ;
许倩婷 .
中国专利 :CN118164910A ,2024-06-11
[5]
Zn<sub>4</sub>(BO<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CO<sub>2</sub>CH<sub>2</sub>NH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>·H<sub>2</sub>O化合物及其晶体、制备方法和应用 [P]. 
彭广 ;
韩言鸣 ;
叶宁 .
中国专利 :CN119823397A ,2025-04-15
[6]
一种C<sub>6</sub>H<sub>10</sub>N<sub>2</sub>PbBr<sub>4</sub>材料及其制备方法和应用 [P]. 
付瑞净 ;
高俊鹏 ;
王玲瑞 ;
肖斌 ;
王光霞 ;
王文辉 .
中国专利 :CN119320346A ,2025-01-17
[7]
一种C<sub>6</sub>N<sub>2</sub>H<sub>16</sub>PbBr<sub>4</sub>晶体及其制备方法和应用 [P]. 
付瑞净 ;
高俊鹏 ;
肖斌 ;
王光霞 ;
胡桃 .
中国专利 :CN118745156A ,2024-10-08
[8]
(C<sub>12</sub>N<sub>2</sub>H<sub>9</sub>)ACl<sub>3</sub>化合物、(C<sub>12</sub>N<sub>2</sub>H<sub>9</sub>)ACl<sub>3</sub>晶体及其制法和用途 [P]. 
赵三根 ;
罗军华 ;
郑杰予 .
中国专利 :CN118290470A ,2024-07-05
[9]
一种Cu<sub>3</sub>(OH)<sub>2</sub>V<sub>2</sub>O<sub>7</sub>·2H<sub>2</sub>O材料的制备方法和应用 [P]. 
孙翱魁 ;
孙文韬 ;
戴戈亮 ;
夏勇 ;
陈一 ;
刘佳林 ;
刘泽淇 ;
涂健 ;
郑湘明 .
中国专利 :CN119100450B ,2025-10-17
[10]
一种Cu<sub>3</sub>(OH)<sub>2</sub>V<sub>2</sub>O<sub>7</sub>·2H<sub>2</sub>O材料的制备方法和应用 [P]. 
孙翱魁 ;
孙文韬 ;
戴戈亮 ;
夏勇 ;
陈一 ;
刘佳林 ;
刘泽淇 ;
涂健 ;
郑湘明 .
中国专利 :CN119100450A ,2024-12-10
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