一种含甲基、噻吩的共价有机框架材料的制备及生产过氧化氢的应用

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专利类型
发明
申请号
CN202510307943.7
申请日
2025-03-17
公开(公告)号
CN120157818A
公开(公告)日
2025-06-17
发明(设计)人
姜艳霞 李运吉 王冠敏 袁延旭 房佳葆 徐浩然
申请人
哈尔滨理工大学
申请人地址
150080 黑龙江省哈尔滨市南岗区学府路52号哈尔滨理工大学
IPC主分类号
C08G12/08
IPC分类号
C01B15/023 B01J31/06 B01J35/39
代理机构
代理人
法律状态
公开
国省代码
黑龙江省 哈尔滨市
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共 50 条
[1]
一种喹啉共价有机框架材料的制备及光合成过氧化氢 [P]. 
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王琪 ;
郭洪霞 .
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[2]
新型羟基修饰共价有机框架材料的制备及其在光合成过氧化氢中的应用 [P]. 
徐航勋 ;
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程俊 ;
王磊 .
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[3]
一种三组分共价有机框架制备及光合成过氧化氢应用 [P]. 
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宁阳 ;
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初小宇 .
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[4]
氟代共价有机框架材料及其制备方法和在光催化生产过氧化氢中的应用 [P]. 
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[5]
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刘勇 ;
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[6]
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[7]
纸基共价有机框架芯片的制备及在过氧化氢制备中的应用 [P]. 
吕京京 ;
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倪嘉阳 ;
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[8]
一种三嗪基共价有机框架材料及其在光催化产过氧化氢中的应用 [P]. 
王心晨 ;
陈雄 ;
王蕾 ;
曾歆一 ;
祝世鹏 .
中国专利 :CN120554599A ,2025-08-29
[9]
过氧化氢的制备 [P]. 
K·P·H·L·A·拉巴雷 ;
R·A·罗森达尔 .
中国专利 :CN102224102A ,2011-10-19
[10]
烷基链修饰的酰腙键连接共价有机框架材料及其在光催化产过氧化氢中的应用 [P]. 
李留义 ;
侯学森 ;
于岩 .
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