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直写曝光机
被引：0
专利类型：
外观设计
申请号：
CN202430605820.8
申请日：
2024-09-23
公开(公告)号：
CN309347331S
公开(公告)日：
2025-06-20
发明(设计)人：
史月林
李志
李波
张雷
申请人：
源卓微纳科技（苏州）股份有限公司
申请人地址：
215026 江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室
IPC主分类号：
15-99
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-06-20 | 授权 | 授权 |