導電性高分子の製造方法、導電性高分子製造用モノマー組成物、並びに電解コンデンサの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20210125402

申请日：

2021-07-30

公开(公告)号：

JP7692301B2

公开(公告)日：

2025-06-13

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C08L65/00

IPC分类号：

C08G61/12 C08G65/18 C08L71/00 C08L101/12 H01G9/00 H01G9/028 H01G9/15

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

導電性高分子固体電解コンデンサの製造方法及び導電性高分子[ja] [P].

日本专利 :JP7100029B2 ,2022-07-12

[2]

導電性高分子固体電解コンデンサの製造方法及び導電性高分子[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018221438A1 ,2020-04-09

[3]

導電性高分子組成物の製造方法、導電性高分子材料の製造方法、導電性基材の製造方法、電極の製造方法および固体電解コンデンサの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP5872872B2 ,2016-03-01

[4]

導電性高分子およびその製造方法、導電性高分子製造用酸化剤兼ドーパント溶液、導電性高分子製造用モノマー組成物、並びに電解コンデンサおよびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025011597A ,2025-01-24

[5]

導電性高分子及び導電性高分子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP5688868B1 ,2015-03-25

[6]

導電性高分子組成物およびその製造方法、導電性高分子材料の製造方法、導電性基材の製造方法、電極の製造方法、電子デバイスの製造方法並びに固体電解コンデンサの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP5952551B2 ,2016-07-13

[7]

導電性高分子製造用酸化剤兼ドーパント溶液、導電性高分子の製造方法、および電解コンデンサの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7064807B2 ,2022-05-11

[8]

導電性高分子製造用酸化剤兼ドーパント溶液、導電性高分子の製造方法、および電解コンデンサの製造方法[ja] [P].

FUJIWARA KAZUTO ;

SEKI EMI .

日本专利 :JP2025116188A ,2025-08-07

[9]

導電性高分子の製造方法および導電性高分子[ja] [P].

日本专利 :JP6241840B2 ,2017-12-06

[10]

導電性高分子分散溶液の製造方法及び電解コンデンサの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6056012B2 ,2017-01-11

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