干法刻蚀设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202422174947.6

申请日：

2024-09-04

公开(公告)号：

CN223066114U

公开(公告)日：

2025-07-04

发明(设计)人：

张涛李建财赖正锦刘伟

申请人：

杭州积海半导体有限公司

申请人地址：

311225 浙江省杭州市钱塘新区义蓬街道江东大道3899号709-7号

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01L21/67

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

顾丹丽

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-04	授权	授权

共 50 条

[1]

干法刻蚀设备 [P].

张正洋 ;

邓泽新 ;

黄伟东 ;

李建华 .

中国专利 :CN204834563U ,2015-12-02

[2]

干法刻蚀设备 [P].

杨伟杰 ;

孟凡顺 ;

刘志攀 .

中国专利 :CN217444341U ,2022-09-16

[3]

干法刻蚀设备 [P].

赵超超 ;

徐跃鸿 ;

石建东 .

中国专利 :CN203553097U ,2014-04-16

[4]

干法刻蚀射频放电增强方法和干法刻蚀设备 [P].

张杰 .

中国专利 :CN113394091A ,2021-09-14

[5]

用于干法刻蚀的承载装置及干法刻蚀设备 [P].

廖鹏宇 ;

蒋冬华 ;

赵吾阳 ;

姜龙 ;

宋亮 ;

谭超 ;

彭于航 ;

谢贤虹 .

中国专利 :CN106935463A ,2017-07-07

[6]

干法刻蚀设备及刻蚀方法 [P].

赵超超 ;

徐跃鸿 ;

石建东 .

中国专利 :CN103474322B ,2013-12-25

[7]

一种干法刻蚀设备 [P].

蒋会刚 ;

刘华锋 ;

刘佳 ;

任志强 ;

谢海征 .

中国专利 :CN202796846U ,2013-03-13

[8]

用于干法刻蚀设备的电极及其制备方法、干法刻蚀设备 [P].

陈程 ;

吕艳明 .

中国专利 :CN104332380A ,2015-02-04

[9]

干法刻蚀设备的下部电极基台及干法刻蚀设备 [P].

贾丕健 .

中国专利 :CN105304446B ,2016-02-03

[10]

清洁装置及干法刻蚀设备 [P].

许凯 ;

张大龙 ;

曾议锋 ;

吴越 ;

李兴光 ;

刘家桦 ;

叶日铨 .

中国专利 :CN210015842U ,2020-02-04

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