含氟环状化合物的制造方法和含氟环状化合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380079957.7

申请日：

2023-11-15

公开(公告)号：

CN120239697A

公开(公告)日：

2025-07-01

发明(设计)人：

川上贵史上牟田大辅青山元志

申请人：

AGC株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

C07D313/04

IPC分类号：

C07D309/30

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

李茂家;李恩华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-01	公开	公开
2025-07-18	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C07D 313/04申请日:20231115

共 50 条

[1]

含氟醚化合物的制造方法和含氟醚化合物 [P].

星野泰辉 ;

高尾清贵 .

中国专利 :CN110650991B ,2020-01-03

[2]

含氟醚化合物的制造方法和含氟醚化合物 [P].

富依勇佑 ;

高尾清贵 .

中国专利 :CN110612319A ,2019-12-24

[3]

环状化合物及环状化合物的制造方法 [P].

井上雄介 ;

村田隆一 ;

桥诘正义 ;

藤原大辅 ;

橘贤也 .

日本专利 :CN118265685A ,2024-06-28

[4]

含氟嘧啶化合物和含氟嘧啶酮化合物 [P].

青津理恵 ;

清野淳弥 ;

小金敬介 .

日本专利 :CN115551840B ,2024-12-03

[5]

含氟嘧啶化合物和含氟嘧啶酮化合物 [P].

青津理恵 ;

清野淳弥 ;

小金敬介 .

中国专利 :CN115551840A ,2022-12-30

[6]

含氟嘧啶化合物和含氟嘧啶酮化合物 [P].

青津理恵 ;

清野淳弥 ;

小金敬介 .

日本专利 :CN119504704A ,2025-02-25

[7]

含氮环状化合物及其制造方法 [P].

远藤雅久 ;

孙军 .

中国专利 :CN110023317B ,2019-07-16

[8]

含杂原子的环状化合物 [P].

菅野修 ;

中岛胜义 ;

青木一真 ;

田中亮一 ;

平野慎平 ;

大泉喜代志 ;

浅野大悟 .

中国专利 :CN102325754B ,2012-01-18

[9]

含氟含硅化合物 [P].

矢岛知子 ;

笹原佳奈 ;

神原将 ;

野口刚 .

中国专利 :CN108473685A ,2018-08-31

[10]

环状化合物 [P].

谷口清 ;

闺正博 ;

寺泽武志 ;

山崎齐 ;

佐藤健太郎 ;

细井久实 ;

富岛康代 ;

向典子 ;

今村佳正 ;

高杉寿 ;

濑户井宏行 .

中国专利 :CN1343206A ,2002-04-03

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