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新規アミン化合物、酸性ガス吸収剤、酸性ガスの除去方法及び酸性ガス除去[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210150538
申请日
:
2021-09-15
公开(公告)号
:
JP7702205B2
公开(公告)日
:
2025-07-03
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01D53/14
IPC分类号
:
B01D53/62
C07D295/04
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
酸性ガス吸収剤、酸性ガスの除去方法及び酸性ガス除去装置[ja]
[P].
SAITO HITOMI
论文数:
0
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0
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机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
SAITO HITOMI
;
SUZUKI AKIKO
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机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
SUZUKI AKIKO
;
NAKANO YOSHIHIKO
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机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
NAKANO YOSHIHIKO
;
YOSHIMURA REIKO
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TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
YOSHIMURA REIKO
;
KONDO ARI
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机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
KONDO ARI
;
MURAI SHINJI
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机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
MURAI SHINJI
;
TAKADA NORIKO
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机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
TAKADA NORIKO
.
日本专利
:JP2024130186A
,2024-09-30
[2]
酸性ガス除去方法、酸性ガス吸収剤、および酸性ガス除去装置[ja]
[P].
SUZUKI AKIKO
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机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
SUZUKI AKIKO
;
NAKANO YOSHIHIKO
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TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
NAKANO YOSHIHIKO
;
YOSHIMURA REIKO
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TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
YOSHIMURA REIKO
;
SAITO HITOMI
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机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
SAITO HITOMI
;
KONDO ARI
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机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
KONDO ARI
;
MURAI SHINJI
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TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
MURAI SHINJI
;
TAKADA NORIKO
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机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
TAKADA NORIKO
.
日本专利
:JP2025044388A
,2025-04-02
[3]
酸性ガス吸収剤、酸性ガス除去装置および酸性ガス除去方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011121633A1
,2013-07-04
[4]
置換ピペラジン化合物及び酸性ガス用の吸収剤、吸収液[ja]
[P].
日本专利
:JP6860147B2
,2021-04-14
[5]
酸性ガスをガス流から除去する統合システム及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017531554A
,2017-10-26
[6]
酸性ガス含有ガス処理用分離膜、及び酸性ガス含有ガス処理用分離膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014199703A1
,2017-02-23
[7]
ハロゲン系ガスの除去方法及びハロゲン系ガスの除去剤[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006064645A1
,2008-06-12
[8]
流体流から酸性ガスを除去する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020507463A
,2020-03-12
[9]
ハロゲン系ガスの除去方法及びハロゲン系ガスの除去剤[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007135823A1
,2009-10-01
[10]
アミノ化合物担持多孔質基材及び酸性ガス吸着材[ja]
[P].
日本专利
:JP7672513B2
,2025-05-07
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