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光源装置、图像投影装置和光源光学系统
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202080074496.0
申请日：
2020-10-29
公开(公告)号：
CN114585968B
公开(公告)日：
2025-06-27
发明(设计)人：
藤田和弘
中村果澄
高野洋平
申请人：
株式会社理光
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03B21/20
IPC分类号：
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
王增强
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-06-27 | 授权 | 授权 |