投射柜和投射系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411912786.4

申请日：

2024-12-24

公开(公告)号：

CN120215192A

公开(公告)日：

2025-06-27

发明(设计)人：

黑田一平

申请人：

精工爱普生株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03B21/14

IPC分类号：

G03B21/26

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

方冬梅;于靖帅

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-27	公开	公开
2025-07-15	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03B 21/14申请日:20241224

共 50 条

[1]

投射装置和投射系统 [P].

李斌 ;

肖锟 ;

高婕 ;

黄海 .

中国专利 :CN216817163U ,2022-06-24

[2]

投射装置和投射系统 [P].

大月伸行 .

中国专利 :CN114578643A ,2022-06-03

[3]

投射系统和投射方法 [P].

白木伸征 ;

平塚诚良 ;

小岛真一 ;

浅冈和也 ;

中岛和彦 .

中国专利 :CN105864706B ,2016-08-17

[4]

投射装置和投射系统 [P].

森江崇正 .

日本专利 :CN118525185A ,2024-08-20

[5]

投射方法、投射系统和程序产品 [P].

竹内广太 ;

作晃介 .

日本专利 :CN120201177A ,2025-06-24

[6]

投射装置和投射系统 [P].

大月伸行 .

日本专利 :CN114578643B ,2024-03-01

[7]

投影仪、投射系统和投射方法 [P].

三好一弘 ;

春日博文 ;

西村直也 ;

尾岛匡则 .

中国专利 :CN110780513A ,2020-02-11

[8]

投射方法以及投射系统 [P].

山内泰介 .

日本专利 :CN115842905B ,2024-05-28

[9]

投射系统和器具 [P].

黃志浩 ;

黃少白 .

中国专利 :CN114286063A ,2022-04-05

[10]

图像投射系统的控制方法和图像投射系统 [P].

山内泰介 .

日本专利 :CN113286132B ,2024-03-08

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