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有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510046699.3
申请日：
2025-01-13
公开(公告)号：
CN120315248A
公开(公告)日：
2025-07-15
发明(设计)人：
新井田惠介 山本靖之
申请人：
信越化学工业株式会社
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
G03F7/004
IPC分类号：
G03F7/11
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇;李茂家
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-08-01 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20250113
2025-07-15 公开 公开
共 50 条
[1]
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法及图案形成方法 [P]. 
郡大佑 ;
山本靖之 .
日本专利 :CN120554798A ,2025-08-29
[2]
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物 [P]. 
新井田惠介 ;
山本靖之 .
日本专利 :CN120829583A ,2025-10-24
[3]
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法及聚合物 [P]. 
郡大佑 ;
山本靖之 .
日本专利 :CN121115406A ,2025-12-12
[4]
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法 [P]. 
郡大佑 ;
山本靖之 ;
今多智大 .
日本专利 :CN119165728A ,2024-12-20
[5]
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法 [P]. 
新井田惠介 ;
山本靖之 .
日本专利 :CN119668024A ,2025-03-21
[6]
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂 [P]. 
新井田惠介 ;
山本靖之 .
日本专利 :CN120315247A ,2025-07-15
[7]
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物 [P]. 
郡大佑 ;
山本靖之 .
日本专利 :CN119861530A ,2025-04-22
[8]
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、单体及聚合物 [P]. 
郡大佑 ;
山本靖之 ;
畠山润 .
日本专利 :CN120699515A ,2025-09-26
[9]
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂 [P]. 
新井田惠介 ;
山本靖之 .
日本专利 :CN120315249A ,2025-07-15
[10]
有机膜形成用材料、基板、有机膜形成方法、图案形成方法及有机膜形成用化合物 [P]. 
郡大佑 ;
泽村昂志 ;
新井田惠介 ;
橘诚一郎 .
日本专利 :CN113433796B ,2024-12-13
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