一种多晶硅还原炉复合涂层及其制备方法、多晶硅还原炉

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510440043.X

申请日：

2025-04-08

公开(公告)号：

CN120249865A

公开(公告)日：

2025-07-04

发明(设计)人：

虎慧胡雷王文周克虎刘丹丹刘浩赵雅兰穆凯代斯·太外库力

申请人：

新特能源股份有限公司

申请人地址：

830011 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市乌鲁木齐国家级高新技术产业开发区（新市区）甘泉堡高新技术产业园

IPC主分类号：

C23C4/12

IPC分类号：

C30B28/00 C30B29/06

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

苏泽飞;邓伯英

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-22	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 4/12申请日:20250408
2025-07-04	公开	公开

共 50 条

[1]

多晶硅还原炉的涂层及其制备方法、多晶硅还原炉及其用途 [P].

张宝顺 ;

王体虎 ;

宗冰 .

中国专利 :CN111334788A ,2020-06-26

[2]

多晶硅还原炉喷嘴及多晶硅还原炉 [P].

冯留建 ;

吴万里 ;

刘兴平 ;

刘浩 ;

郭鸿 .

中国专利 :CN221275221U ,2024-07-05

[3]

多晶硅还原炉喷嘴及多晶硅还原炉 [P].

虎慧 ;

胡雷 ;

王文 ;

加依达尔·包啦提 ;

赵雅兰 ;

穆凯代斯·太外库力 .

中国专利 :CN223047264U ,2025-07-01

[4]

多晶硅还原炉 [P].

姚心 ;

汪绍芬 ;

郑红梅 .

中国专利 :CN204529320U ,2015-08-05

[5]

多晶硅还原炉 [P].

刘艳飞 .

中国专利 :CN204490518U ,2015-07-22

[6]

多晶硅还原炉 [P].

汪绍芬 ;

石何武 ;

杨永亮 ;

严大洲 ;

汤传斌 ;

姚心 .

中国专利 :CN106276914A ,2017-01-04

[7]

多晶硅还原炉 [P].

赵振元 ;

罗明树 ;

刘胜春 ;

王明云 ;

江元升 ;

蒋玉梅 ;

王毅勃 .

中国专利 :CN201962074U ,2011-09-07

[8]

多晶硅还原炉 [P].

张明河 ;

张一麦 .

中国专利 :CN205472699U ,2016-08-17

[9]

多晶硅还原炉 [P].

朱青松 .

中国专利 :CN201746331U ,2011-02-16

[10]

多晶硅还原炉 [P].

朱青松 ;

王存惠 .

中国专利 :CN201214631Y ,2009-04-01

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