流体处理系统和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380089389.9

申请日：

2023-11-23

公开(公告)号：

CN120380422A

公开(公告)日：

2025-07-25

发明(设计)人：

M·L·范德盖格 J·J·H·格里特曾 S·纳亚克卡拉尔贝利 M·约万诺维奇

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰

IPC主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

毕杨

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-25	公开	公开

共 50 条

[1]

流体处理系统和方法 [P].

史蒂文·M·卢尔科特 ;

约翰·E·Q·休斯 ;

彼得·弗尔施卡 ;

托马斯·H·鲍姆 ;

唐纳德·D·韦尔 ;

邹鹏 .

中国专利 :CN102460640A ,2012-05-16

[2]

流体处理系统和流体处理方法 [P].

罗伯特·A·H·布鲁奈特 ;

乔治·特劳本贝格 ;

毛铁 ;

费雷兹·侯赛因 .

中国专利 :CN1438971A ,2003-08-27

[3]

流体处理系统和方法 [P].

M·索尔多 .

:CN119403615A ,2025-02-07

[4]

流体处理系统和方法 [P].

凯利·罗克 .

中国专利 :CN1293591A ,2001-05-02

[5]

流体处理系统和方法 [P].

J·M·马斯查克韦德 .

中国专利 :CN1121320A ,1996-04-24

[6]

流体处理系统和方法 [P].

塞巴斯蒂安·霍纳 ;

海因里奇·哈斯 ;

亚历山大·伯克 ;

本杰明·韦伯 .

德国专利 :CN120569253A ,2025-08-29

[7]

流体处理系统的流体壳体和流体处理系统 [P].

M.法佐尔德 ;

U.德嫩 ;

S.孔策 ;

C.M.施图格斯 ;

A.韦尔 ;

H.多布施 ;

A.施彭内曼 ;

O.福卡 ;

D.塔尔蒙-格罗斯 ;

A.克洛茨 ;

L.巴赫曼 ;

P.戈尔 ;

O.格吕克 ;

V.楚皮纳 ;

A.库特施 .

中国专利 :CN107638731B ,2018-01-30

[8]

流体处理装置、流体处理方法和半导体处理系统 [P].

温子瑛 .

中国专利 :CN116078242B ,2025-08-08

[9]

流体处理系统和包括所述流体处理系统的仪器 [P].

S.艾伦 .

中国专利 :CN209102019U ,2019-07-12

[10]

基板处理方法和基板处理系统 [P].

松田梨沙子 ;

木下忍 ;

大家学 ;

庄司庆太 .

日本专利 :CN113394130B ,2025-07-29

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