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含氟异恶唑化合物及其制造方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202380084169.7
申请日：
2023-11-30
公开(公告)号：
CN120359206A
公开(公告)日：
2025-07-22
发明(设计)人：
清野淳弥 青津理恵 小金敬介
申请人：
优迈特株式会社
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
C07D261/12
IPC分类号：
C07D261/14 C07D413/04
代理机构：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258
代理人：
朴今春
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-07-22 公开 公开
2025-08-08 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C07D 261/12申请日:20231130
共 50 条
[1]
含氟异恶唑酮化合物及其制造方法 [P]. 
清野淳弥 ;
青津理恵 ;
高桥雄介 .
日本专利 :CN121039111A ,2025-11-28
[2]
含氟嘧啶化合物及其制造方法 [P]. 
清野淳弥 ;
青津理恵 ;
小金敬介 .
中国专利 :CN114585618A ,2022-06-03
[3]
含氟吡唑化合物及其制造方法 [P]. 
清野淳弥 ;
青津理恵 ;
小金敬介 .
日本专利 :CN118076587A ,2024-05-24
[4]
含氟嘧啶化合物及其制造方法 [P]. 
清野淳弥 ;
青津理恵 ;
小金敬介 .
中国专利 :CN112739689B ,2021-04-30
[5]
含氟醚化合物及其制造方法 [P]. 
岸川洋介 ;
星谷尚亨 ;
石原寿美 .
日本专利 :CN120019038A ,2025-05-16
[6]
含氟聚醚化合物及其制造方法 [P]. 
齐藤智 .
中国专利 :CN102037057A ,2011-04-27
[7]
含氟代聚醚基化合物及其制造方法 [P]. 
平贺健太郎 ;
杉山明平 ;
山口史彦 ;
野村孝史 ;
涩谷祥太 ;
奥野晋吾 .
日本专利 :CN114402011B ,2024-12-17
[8]
含氟嘧啶化合物及其制备方法 [P]. 
清野淳弥 ;
青津理恵 ;
小金敬介 .
中国专利 :CN114585617A ,2022-06-03
[9]
含氟嘧啶化合物及其制备方法 [P]. 
清野淳弥 ;
青津理恵 ;
小金敬介 .
中国专利 :CN114502551A ,2022-05-13
[10]
含氟嘧啶化合物和含氟嘧啶酮化合物 [P]. 
青津理恵 ;
清野淳弥 ;
小金敬介 .
日本专利 :CN115551840B ,2024-12-03
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