一种硅片清洗干燥设备及清洗干燥方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311601508.2
申请日
2023-11-24
公开(公告)号
CN117443832B
公开(公告)日
2025-07-29
发明(设计)人
霍育强 刘睿
申请人
池州首开新材料有限公司
申请人地址
247100 安徽省池州市贵池区江南产业集中区新材料产业园11#厂房
IPC主分类号
B08B3/08
IPC分类号
B08B3/02 B08B7/00 B08B3/10
代理机构
北京久诚知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11542
代理人
齐葵
法律状态
实质审查的生效
国省代码
江苏省 南京市
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共 50 条
[1]
一种硅片清洗干燥设备及清洗干燥方法 [P]. 
霍育强 ;
刘睿 .
中国专利 :CN117443832A ,2024-01-26
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