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等离子体处理方法和等离子体处理装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110202244.8
申请日
:
2021-02-23
公开(公告)号
:
CN113345787B
公开(公告)日
:
2025-07-25
发明(设计)人
:
矢幡将二郎
佐藤徹治
申请人
:
东京毅力科创株式会社
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J37/32
IPC分类号
:
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-07-25
授权
授权
共 50 条
[1]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
矢幡将二郎
论文数:
0
引用数:
0
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0
矢幡将二郎
;
佐藤徹治
论文数:
0
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0
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0
佐藤徹治
.
中国专利
:CN113345787A
,2021-09-03
[2]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
岸宏树
论文数:
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0
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0
岸宏树
;
徐智洙
论文数:
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徐智洙
.
中国专利
:CN106920733B
,2017-07-04
[3]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
中村纮一郎
论文数:
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
中村纮一郎
;
清藤规久
论文数:
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
清藤规久
.
日本专利
:CN118613899A
,2024-09-06
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
大内淳子
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大内淳子
;
大岩德久
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大岩德久
.
中国专利
:CN1503321A
,2004-06-09
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
内田阳平
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
内田阳平
;
佐藤徹治
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤徹治
;
矢幡将二郎
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
矢幡将二郎
;
高瀬均
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
高瀬均
.
日本专利
:CN110993476B
,2024-05-24
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
青木裕介
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青木裕介
.
中国专利
:CN114664626A
,2022-06-24
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
内田阳平
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0
内田阳平
;
佐藤徹治
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佐藤徹治
;
矢幡将二郎
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矢幡将二郎
;
高瀬均
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高瀬均
.
中国专利
:CN110993476A
,2020-04-10
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
宇津木康史
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宇津木康史
;
东条利洋
论文数:
0
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东条利洋
.
中国专利
:CN110610843B
,2019-12-24
[9]
等离子体处理装置、等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
论文数:
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舆水地盐
.
中国专利
:CN101908460A
,2010-12-08
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
山岸幸司
论文数:
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山岸幸司
;
白泽大辅
论文数:
0
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白泽大辅
.
中国专利
:CN112992643A
,2021-06-18
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