一种改进型平面磁流变抛光机

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202421807372.0

申请日：

2024-07-29

公开(公告)号：

CN223114893U

公开(公告)日：

2025-07-18

发明(设计)人：

陈宇翔翟会阳李永波李纪宏

申请人：

苏州万龙达电子科技有限公司

申请人地址：

215000 江苏省苏州市工业园区东富路32号A栋205室

IPC主分类号：

B24B31/00

IPC分类号：

B24B31/12 B24B1/00

代理机构：

南京普睿益思知识产权代理事务所(普通合伙) 32475

代理人：

邬正祥

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-18	授权	授权

共 50 条

[1]

一种平面磁流变抛光机 [P].

肖志宏 .

中国专利 :CN214922820U ,2021-11-30

[2]

一种平面磁流变抛光机 [P].

陈丙三 ;

黄迪程 ;

郑城 ;

黄卫东 .

中国专利 :CN210757078U ,2020-06-16

[3]

一种环保型平面抛光机 [P].

康天龙 .

中国专利 :CN213054253U ,2021-04-27

[4]

一种改进型抛光机 [P].

曹华琴 .

中国专利 :CN206912917U ,2018-01-23

[5]

一种改进型抛光机 [P].

陈民宗 .

中国专利 :CN209095241U ,2019-07-12

[6]

一种改进型抛光机 [P].

于永辉 ;

于浩洋 ;

祁继彤 ;

马艳华 ;

于欣楠 ;

红梅 .

中国专利 :CN213644213U ,2021-07-09

[7]

一种改进型抛光机 [P].

许虹霓 .

中国专利 :CN220762167U ,2024-04-12

[8]

一种电场磁场耦合磁流变复合抛光盘及抛光机 [P].

潘继生 ;

黄华炜 ;

阎秋生 ;

吴勇波 ;

洪志清 .

中国专利 :CN216152043U ,2022-04-01

[9]

一种义齿抛光用磁流变抛光机 [P].

李庆 .

中国专利 :CN223369113U ,2025-09-23

[10]

平面抛光机 [P].

王炳予 .

中国专利 :CN206296794U ,2017-07-04

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