新型方酸鎓化合物、近红外吸收色素及薄膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510015174.3

申请日：

2025-01-06

公开(公告)号：

CN120349332A

公开(公告)日：

2025-07-22

发明(设计)人：

江上直希桥本真纪佐藤洋

申请人：

保土谷化学工业株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C07D519/00

IPC分类号：

C09B57/00 H10K85/60 C09D7/41 C09D11/037 C09D11/328

代理机构：

北京钲霖知识产权代理有限公司 11722

代理人：

李英艳;玉昌峰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-22	公开	公开

共 50 条

[1]

色素组合物、膜、滤光器及近红外吸收化合物 [P].

坂井优介 ;

野泽晓 ;

佐佐木大辅 .

日本专利 :CN120958086A ,2025-11-14

[2]

近红外吸收化合物及采用该化合物的近红外吸收滤光材料 [P].

北山靖之 ;

山村重夫 .

中国专利 :CN1742214A ,2006-03-01

[3]

醌型联噻吩化合物、近红外吸收色素、薄膜、滤色器及近红外线截止滤光器 [P].

八木繁幸 ;

桥本真纪 ;

冈地诚 ;

佐藤洋 .

中国专利 :CN115124553A ,2022-09-30

[4]

新型吡啶鎓化合物 [P].

稻垣谦介 ;

高野仁和 .

日本专利 :CN119013258A ,2024-11-22

[5]

近红外吸收化合物及引入其的装置 [P].

P·基里 .

中国专利 :CN109906219A ,2019-06-18

[6]

色调修正剂、方酸内鎓盐化合物及滤光器 [P].

前田洋介 ;

石田达哉 .

中国专利 :CN102575107A ,2012-07-11

[7]

方酸色素及其纯化方法、分散物以及近红外线吸收性组合物 [P].

佐佐木大辅 ;

坂井优介 .

日本专利 :CN120173008A ,2025-06-20

[8]

新型咪唑鎓化合物 [P].

大野弘幸 ;

水云智信 ;

吉田正广 ;

菅孝刚 .

中国专利 :CN1922152A ,2007-02-28

[9]

杂多环化合物及色素 [P].

吉田胜平 ;

大山阳介 .

中国专利 :CN100548982C ,2007-02-21

[10]

近红外线吸收色素和近红外线吸收组合物 [P].

冈安晃典 ;

田村正明 .

中国专利 :CN102656245A ,2012-09-05

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