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一种高温烧结炉
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202421672852.0
申请日
:
2024-07-16
公开(公告)号
:
CN223295220U
公开(公告)日
:
2025-09-02
发明(设计)人
:
李昌华
申请人
:
沈阳华耀真空设备有限公司
申请人地址
:
110000 辽宁省沈阳市沈北新区七星大街63-51号103
IPC主分类号
:
F27B5/05
IPC分类号
:
F27B5/06
F27B5/14
F27B5/18
代理机构
:
辽宁铭合专利代理事务所(普通合伙) 21262
代理人
:
冉清泉
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-09-02
授权
授权
共 50 条
[1]
一种立式高温烧结炉
[P].
王玉洁
论文数:
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0
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王玉洁
.
中国专利
:CN108106413A
,2018-06-01
[2]
一种立式高温烧结炉
[P].
王玉洁
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王玉洁
.
中国专利
:CN207894226U
,2018-09-21
[3]
高温烧结炉
[P].
金传广
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金传广
;
张春伟
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张春伟
;
任耀庆
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任耀庆
;
程世利
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程世利
;
徐晓洪
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徐晓洪
;
刘兆诚
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刘兆诚
.
中国专利
:CN105276984A
,2016-01-27
[4]
高温烧结炉
[P].
金传广
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金传广
;
张春伟
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张春伟
;
任耀庆
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任耀庆
;
程世利
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程世利
;
徐晓洪
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徐晓洪
;
刘兆诚
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刘兆诚
.
中国专利
:CN205066445U
,2016-03-02
[5]
一种高温烧结炉
[P].
李小琴
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李小琴
.
中国专利
:CN206974168U
,2018-02-06
[6]
超高温烧结炉
[P].
明悦
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明悦
;
孙足来
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孙足来
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苏宁
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苏宁
;
李忠仁
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李忠仁
;
朱一鸣
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朱一鸣
.
中国专利
:CN213578744U
,2021-06-29
[7]
一种高温真空热压烧结炉
[P].
李昌华
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机构:
沈阳华耀真空设备有限公司
沈阳华耀真空设备有限公司
李昌华
.
中国专利
:CN223295219U
,2025-09-02
[8]
一种超高温烧结炉
[P].
明悦
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明悦
;
孙足来
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孙足来
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苏宁
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苏宁
;
李忠仁
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李忠仁
;
朱一鸣
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朱一鸣
.
中国专利
:CN112304095A
,2021-02-02
[9]
高温烧结炉
[P].
陈梓展
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机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
陈梓展
;
龙占勇
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机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
龙占勇
;
韩雪岭
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拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
韩雪岭
;
林佳继
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机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
林佳继
.
中国专利
:CN308754702S
,2024-07-26
[10]
高温烧结炉
[P].
耿雷
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耿雷
;
张景平
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张景平
.
中国专利
:CN206064779U
,2017-04-05
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