感放射线性组合物、图案形成方法及鎓盐化合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480010902.5

申请日：

2024-04-24

公开(公告)号：

CN120641825A

公开(公告)日：

2025-09-12

发明(设计)人：

稻见甫柄川冬辉根本龙一三宅正之宫尾健介

申请人：

JSR株式会社

申请人地址：

日本东京港区东新桥一丁目9番2号

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/20 G03F7/038 G03F7/039

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

张娜;王蕊

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-09-12	公开	公开

共 50 条

[1]

感放射线性组合物、图案形成方法及鎓盐化合物 [P].

柄川冬辉 ;

根本龙一 ;

大城卓 ;

宫尾健介 ;

稻见甫 .

日本专利 :CN120641824A ,2025-09-12

[2]

感放射线性组合物、图案形成方法及鎓盐化合物 [P].

阿部祐大 ;

稻见甫 ;

根本龙一 ;

柄川冬辉 ;

三宅正之 .

日本专利 :CN120660044A ,2025-09-16

[3]

感放射线性组合物、图案形成方法及鎓盐 [P].

根本龙一 ;

冰上裕一 ;

三田伦广 ;

三宅正之 ;

稻见甫 .

日本专利 :CN120641823A ,2025-09-12

[4]

感放射线性组合物、图案形成方法及鎓盐化合物 [P].

根本龙一 ;

宫尾健介 ;

冈崎聪司 ;

稻见甫 ;

大城卓 .

日本专利 :CN121175621A ,2025-12-19

[5]

感放射线性组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂 [P].

根本龙一 ;

三田伦广 ;

西井厚登 ;

稻见甫 .

日本专利 :CN120266060A ,2025-07-04

[6]

感放射线性组合物及图案形成方法 [P].

根本龙一 ;

宫尾健介 ;

冈崎聪司 ;

稻见甫 ;

柄川冬辉 .

日本专利 :CN121195208A ,2025-12-23

[7]

感放射线性组合物、图案形成方法及鎓盐 [P].

根本龙一 ;

阿部祐大 ;

西井厚登 ;

三田伦广 ;

稻见甫 ;

柄川冬辉 .

日本专利 :CN120936946A ,2025-11-11

[8]

感放射线性组合物、抗蚀剂图案形成方法、聚合物及化合物 [P].

江崎郁哉 ;

白谷宗大 .

日本专利 :CN120604171A ,2025-09-05

[9]

感放射线性组合物、抗蚀剂图案形成方法及感放射线性酸产生剂 [P].

根本龙一 ;

三宅正之 ;

三田伦广 ;

宫尾健介 ;

冈崎聪司 .

日本专利 :CN119173815A ,2024-12-20

[10]

感放射线性树脂组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂 [P].

根本龙一 ;

宫尾健介 ;

稻见甫 ;

大冢昇 .

日本专利 :CN119768738A ,2025-04-04

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