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一种等离子体自动清洗装置和方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411019583.2
申请日
:
2024-07-29
公开(公告)号
:
CN118950606B
公开(公告)日
:
2025-09-19
发明(设计)人
:
徐晗
井澈
黄轶泓
谢楷
邵明绪
申请人
:
西安电子科技大学
申请人地址
:
710126 陕西省西安市长安区西沣路兴隆段266号
IPC主分类号
:
B08B7/00
IPC分类号
:
B08B3/02
B08B13/00
A01K13/00
代理机构
:
西安知诚思迈知识产权代理事务所(普通合伙) 61237
代理人
:
闵媛媛
法律状态
:
授权
国省代码
:
陕西省 西安市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-09-19
授权
授权
2024-12-03
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):B08B 7/00申请日:20240729
2024-11-15
公开
公开
共 50 条
[1]
一种等离子体自动清洗装置和方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
徐晗
;
井澈
论文数:
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0
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0
机构:
西安电子科技大学
西安电子科技大学
井澈
;
黄轶泓
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0
机构:
西安电子科技大学
西安电子科技大学
黄轶泓
;
论文数:
引用数:
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机构:
谢楷
;
论文数:
引用数:
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机构:
邵明绪
.
中国专利
:CN118950606A
,2024-11-15
[2]
低温等离子体商用厨房自动清洗装置
[P].
张勇
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0
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0
张勇
.
中国专利
:CN206838652U
,2018-01-05
[3]
一种等离子体清洗装置
[P].
刘东平
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刘东平
;
宗子超
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宗子超
;
周仁武
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周仁武
.
中国专利
:CN204508893U
,2015-07-29
[4]
一种等离子体清洗装置
[P].
苟建伟
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苟建伟
;
苟小卫
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苟小卫
.
中国专利
:CN211386123U
,2020-09-01
[5]
一种等离子体清洗装置
[P].
刘东平
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刘东平
;
宗子超
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宗子超
;
周仁武
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周仁武
.
中国专利
:CN104609509A
,2015-05-13
[6]
等离子体发生器及等离子体清洗装置
[P].
王永青
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王永青
.
中国专利
:CN109365411A
,2019-02-22
[7]
一种等离子体增强清洗装置及清洗方法
[P].
曹时义
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曹时义
;
王俊锋
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王俊锋
;
袁明
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袁明
.
中国专利
:CN114438441A
,2022-05-06
[8]
一种等离子体清洗装置
[P].
张楠林
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张楠林
;
庄李施
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庄李施
.
中国专利
:CN213887438U
,2021-08-06
[9]
微波等离子体发生装置、微波等离子体处理装置和微波等离子体处理方法
[P].
中川清和
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机构:
株式会社阿比特技术
株式会社阿比特技术
中川清和
;
宇佐美由久
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机构:
株式会社阿比特技术
株式会社阿比特技术
宇佐美由久
.
日本专利
:CN119586328A
,2025-03-07
[10]
等离子体清洗装置
[P].
乐卫平
论文数:
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机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
乐卫平
;
黄晓东
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机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
黄晓东
;
吴基锴
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机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
吴基锴
.
中国专利
:CN220672508U
,2024-03-26
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