微透镜阵列的自动压印设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202211469736.4

申请日：

2022-11-22

公开(公告)号：

CN115657420B

公开(公告)日：

2025-09-12

发明(设计)人：

伦道尔·范·德·利乌高毓

申请人：

苏州晶方光电科技有限公司

申请人地址：

215126 江苏省苏州市工业园区长阳街133号B栋118室

IPC主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G02B3/00

代理机构：

苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295

代理人：

田媛

法律状态：

授权

国省代码：

江苏省苏州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-09-12	授权	授权

共 50 条

[1]

微透镜阵列的自动压印设备 [P].

伦道尔·范·德·利乌 ;

高毓 .

中国专利 :CN115657420A ,2023-01-31

[2]

纳米压印微透镜阵列及其制造方法 [P].

吕璐 ;

B·D·西尔弗斯坦 ;

H·于 ;

王梦霏 .

中国专利 :CN115053151A ,2022-09-13

[3]

软模压印制造微透镜阵列的方法 [P].

周常河 ;

王伟 .

中国专利 :CN101339364A ,2009-01-07

[4]

微透镜及微透镜阵列 [P].

余泰成 .

中国专利 :CN101846757A ,2010-09-29

[5]

微透镜阵列 [P].

周松钻 ;

李仲禹 ;

黄玲 .

中国专利 :CN101520523A ,2009-09-02

[6]

微透镜阵列 [P].

R·W·沃克 .

中国专利 :CN101080819A ,2007-11-28

[7]

微透镜阵列 [P].

末广一郎 ;

片山博之 ;

赤沢光治 ;

薄井英之 .

中国专利 :CN101661119A ,2010-03-03

[8]

微透镜阵列 [P].

J·V·布拉斯科克拉雷特 ;

C·蒙托柳阿尔瓦罗 ;

A·卡拉泰乌德卡拉泰乌德 ;

L·卡立恩 ;

A·马丁内斯尤斯欧 .

中国专利 :CN110192127B ,2019-08-30

[9]

微透镜阵列 [P].

关大介 ;

坂上典久 .

中国专利 :CN106164714B ,2016-11-23

[10]

微透镜阵列 [P].

内本宏 .

中国专利 :CN305142106S ,2019-05-03

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