一种聚偏二氟乙烯基复合膜及其制备方法和应用

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202411902761.6
申请日
2024-12-23
公开(公告)号
CN119701684B
公开(公告)日
2025-09-19
发明(设计)人
张鹏超 陈中奥 陈骁 王永轩
申请人
武汉理工大学
申请人地址
430000 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号
IPC主分类号
B01D71/32
IPC分类号
B01D69/02 B01D69/12 B01D67/00 C02F1/44 C02F103/08
代理机构
武汉红观专利代理事务所(普通合伙) 42247
代理人
管先翠
法律状态
授权
国省代码
湖北省 武汉市
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共 50 条
[1]
一种聚偏二氟乙烯基复合膜及其制备方法和应用 [P]. 
张鹏超 ;
陈中奥 ;
陈骁 ;
王永轩 .
中国专利 :CN119701684A ,2025-03-28
[2]
一种聚偏氟乙烯三氟乙烯基复合膜及其制备和应用 [P]. 
程逵 ;
罗芹 ;
吴程伟 ;
林伟明 ;
翁文剑 .
中国专利 :CN118745258A ,2024-10-08
[3]
一种聚偏二氟乙烯分离膜及其制备方法和应用 [P]. 
黄博武 ;
王建明 ;
陈顺权 ;
李亮 ;
郭秋兰 ;
谢绍业 .
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[4]
铝粉/聚偏二氟乙烯复合粒子及其制备方法和应用 [P]. 
韩志伟 ;
李亚宁 ;
甘璐瑶 ;
王伯良 .
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[5]
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王勇 ;
张文斌 ;
杨静晖 ;
黄婷 ;
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[6]
一种聚偏二氟乙烯多孔薄膜及其制备方法和应用 [P]. 
张超 ;
黄健 ;
刘天西 ;
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王煜烽 ;
季白钰 ;
赵永旭 ;
徐凡昆 ;
程渊博 ;
王德宝 .
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[7]
一种锌电池用聚偏二氟乙烯基复合隔膜及其制备方法与应用 [P]. 
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[8]
一种全氟磺酸/磺酸化聚偏二氟乙烯微孔薄膜离子交换复合膜及其制备方法和应用 [P]. 
杨大伟 ;
柏槐基 ;
袁茂文 ;
伍晶鑫 ;
茹小飞 ;
山伯晋 ;
曹朋飞 .
中国专利 :CN117186486B ,2024-09-20
[9]
聚偏氟乙烯基复合纤维膜及其制备方法与应用 [P]. 
邱业君 ;
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[10]
聚偏氟乙烯复合膜及其制备方法 [P]. 
李民 .
中国专利 :CN104191770A ,2014-12-10