含氟吡唑啉酮化合物及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202480010934.5
申请日
2024-02-08
公开(公告)号
CN120641400A
公开(公告)日
2025-09-12
发明(设计)人
清野淳弥 青津理恵 高桥雄介
申请人
优迈特株式会社
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
C07D231/20
IPC分类号
C07D231/22 C07D401/12 C07D487/04
代理机构
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258
代理人
朴今春
法律状态
公开
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
含氟吡唑化合物及其制造方法 [P]. 
清野淳弥 ;
青津理恵 ;
小金敬介 .
日本专利 :CN118076587A ,2024-05-24
[2]
含氟吡唑化合物及其制备方法 [P]. 
清野淳弥 ;
青津理惠 ;
小金敬介 .
日本专利 :CN114555581B ,2024-05-24
[3]
含氟吡唑化合物及其制备方法 [P]. 
清野淳弥 ;
青津理惠 ;
小金敬介 .
中国专利 :CN114555581A ,2022-05-27
[4]
制造新吡唑啉化合物的方法 [P]. 
北岛厚次 ;
沼田智 ;
小高建次 ;
大冈真行 ;
福士幸治 ;
宇田川隆敏 ;
白石史郎 ;
中村雅彦 .
中国专利 :CN86105597A ,1987-02-25
[5]
含氟嘧啶化合物及其制造方法 [P]. 
清野淳弥 ;
青津理恵 ;
小金敬介 .
中国专利 :CN114585618A ,2022-06-03
[6]
吡唑啉酮化合物及其制备方法和用途 [P]. 
王亚坤 ;
赵兴华 ;
董高攀 ;
王鹏伟 ;
孟令会 ;
马丽娟 ;
韩一鸣 ;
杨鹏飞 .
中国专利 :CN119661441A ,2025-03-21
[7]
含氟吡啶酮化合物及其制造方法 [P]. 
清野淳弥 ;
青津理恵 ;
高桥雄介 .
日本专利 :CN120225504A ,2025-06-27
[8]
含氟异恶唑酮化合物及其制造方法 [P]. 
清野淳弥 ;
青津理恵 ;
高桥雄介 .
日本专利 :CN121039111A ,2025-11-28
[9]
含氟嘧啶化合物和含氟嘧啶酮化合物 [P]. 
青津理恵 ;
清野淳弥 ;
小金敬介 .
日本专利 :CN119504704A ,2025-02-25
[10]
含氟嘧啶化合物和含氟嘧啶酮化合物 [P]. 
青津理恵 ;
清野淳弥 ;
小金敬介 .
日本专利 :CN115551840B ,2024-12-03