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一种化学机械抛光垫及其制备方法和应用
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510815029.3
申请日
:
2025-06-18
公开(公告)号
:
CN120680426A
公开(公告)日
:
2025-09-23
发明(设计)人
:
王福正
王文芳
董栋
申请人
:
彤程电子材料(常州)有限公司
上海彤程电子材料有限公司
申请人地址
:
213213 江苏省常州市金坛区尧塘街道亿晶路9号
IPC主分类号
:
B24B37/24
IPC分类号
:
B24B37/00
B24D18/00
C08L63/00
C08L75/04
代理机构
:
北京精金石知识产权代理有限公司 11470
代理人
:
臧雅丽
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
上海市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-10-14
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/24申请日:20250618
2025-09-23
公开
公开
共 50 条
[1]
一种化学机械抛光垫及其制备方法和应用
[P].
苏建修
论文数:
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苏建修
;
王占奎
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王占奎
;
李勇峰
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李勇峰
;
李海波
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李海波
;
赵红远
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赵红远
;
张亚奇
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张亚奇
;
逄明华
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逄明华
;
祁婉婷
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祁婉婷
.
中国专利
:CN113579993A
,2021-11-02
[2]
化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫
[P].
梅英杰
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
梅英杰
;
鲁航
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
鲁航
;
王凯
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王凯
;
田骐源
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
田骐源
;
袁文杰
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
袁文杰
;
高彦升
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
高彦升
;
闫晨凯
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
闫晨凯
.
中国专利
:CN118721051B
,2025-08-29
[3]
化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫
[P].
梅英杰
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
梅英杰
;
鲁航
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
鲁航
;
王凯
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王凯
;
田骐源
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
田骐源
;
袁文杰
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
袁文杰
;
高彦升
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
高彦升
;
闫晨凯
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
闫晨凯
.
中国专利
:CN118721051A
,2024-10-01
[4]
化学机械抛光垫的聚氨酯抛光层及其制备方法和应用、抛光垫
[P].
罗建勋
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
罗建勋
;
王凯
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王凯
;
田骐源
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
田骐源
;
方璞
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
方璞
.
中国专利
:CN119039558A
,2024-11-29
[5]
化学机械抛光垫、制备方法及其应用
[P].
谢毓
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谢毓
;
王凯
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王凯
.
中国专利
:CN113334243A
,2021-09-03
[6]
一种快速回弹的化学机械抛光垫及其制备方法和应用
[P].
陈朝奭
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
陈朝奭
;
刘相宝
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
刘相宝
;
王凯
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王凯
.
中国专利
:CN120080257A
,2025-06-03
[7]
抛光垫及其制备方法、化学机械抛光设备
[P].
邹小芳
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机构:
比亚迪股份有限公司
比亚迪股份有限公司
邹小芳
;
赵文砚
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机构:
比亚迪股份有限公司
比亚迪股份有限公司
赵文砚
;
段平平
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机构:
比亚迪股份有限公司
比亚迪股份有限公司
段平平
;
王晖
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机构:
比亚迪股份有限公司
比亚迪股份有限公司
王晖
;
张新豪
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机构:
比亚迪股份有限公司
比亚迪股份有限公司
张新豪
.
中国专利
:CN119772779A
,2025-04-08
[8]
化学机械抛光垫和化学机械抛光方法
[P].
西村秀树
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西村秀树
;
清水崇文
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清水崇文
;
栗山敬祐
论文数:
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栗山敬祐
;
辻昭卫
论文数:
0
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0
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辻昭卫
.
中国专利
:CN1990183A
,2007-07-04
[9]
一种化学机械抛光垫及其制备方法
[P].
相红旗
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相红旗
;
陈浩聪
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陈浩聪
;
姚力军
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0
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姚力军
.
中国专利
:CN114701105A
,2022-07-05
[10]
化学机械抛光垫及化学机械抛光方法
[P].
刘宇宏
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刘宇宏
;
韩桂全
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韩桂全
;
雒建斌
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雒建斌
;
郭丹
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郭丹
;
路新春
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路新春
.
中国专利
:CN102601727A
,2012-07-25
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