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照射装置、照射方法、および照射プログラム[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240034408
申请日
:
2024-03-06
公开(公告)号
:
JP2025136167A
公开(公告)日
:
2025-09-19
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
A01K61/50
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
照射装置、照射方法、プログラム及び媒体[ja]
[P].
日本专利
:JP5935755B2
,2016-06-15
[2]
照射装置および照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6523561B1
,2019-06-05
[3]
照射装置および照射方法[ja]
[P].
MANABE YOSHIO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV OSAKA
UNIV OSAKA
MANABE YOSHIO
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
YAMAMOTO KAZUHISA
;
FUJI HIROSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV OSAKA
UNIV OSAKA
FUJI HIROSHI
.
日本专利
:JP2024173748A
,2024-12-12
[4]
照射装置および照射方法[ja]
[P].
MANABE YOSHIO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV OSAKA
UNIV OSAKA
MANABE YOSHIO
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
YAMAMOTO KAZUHISA
;
FUJI HIROSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV OSAKA
UNIV OSAKA
FUJI HIROSHI
.
日本专利
:JP2024175014A
,2024-12-17
[5]
照射装置および照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6773382B2
,2020-10-21
[6]
照射装置および照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015535391A
,2015-12-10
[7]
照射装置および照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019053890A1
,2019-11-07
[8]
照射装置及びプログラム[ja]
[P].
日本专利
:JP6068527B2
,2017-01-25
[9]
粒子線照射装置及び粒子線照射プログラム[ja]
[P].
日本专利
:JP7237716B2
,2023-03-13
[10]
照射装置、造形システム、照射方法及びプログラム[ja]
[P].
日本专利
:JP6791178B2
,2020-11-25
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