版图的修正方法、存储介质及终端

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411137065.0

申请日：

2024-08-16

公开(公告)号：

CN119087738B

公开(公告)日：

2025-09-26

发明(设计)人：

鲁苗苗高大为吴永玉任堃徐世斌颜哲钜李翰轩姚淼红张馨元

申请人：

浙江创芯集成电路有限公司

申请人地址：

311200 浙江省杭州市萧山区经济技术开发区建设三路733号

IPC主分类号：

G03F1/36

IPC分类号：

G03F1/38 G03F1/72

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

吴敏

法律状态：

授权

国省代码：

浙江省杭州市

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-09-26	授权	授权
2024-12-06	公开	公开
2024-12-24	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/36申请日:20240816

共 50 条

[1]

版图的修正方法、存储介质及终端 [P].

鲁苗苗 ;

高大为 ;

吴永玉 ;

任堃 ;

徐世斌 ;

颜哲钜 ;

李翰轩 ;

姚淼红 ;

张馨元 .

中国专利 :CN119087738A ,2024-12-06

[2]

版图修正方法、存储介质及终端 [P].

王占雨 .

中国专利 :CN118689030A ,2024-09-24

[3]

版图修正方法、存储介质及终端 [P].

李彦江 ;

任堃 ;

高大为 ;

吴永玉 .

中国专利 :CN119250011A ,2025-01-03

[4]

版图修正方法、存储介质及终端 [P].

王占雨 .

中国专利 :CN118689031A ,2024-09-24

[5]

版图修正方法、存储介质和存储终端 [P].

贾敏 ;

聂智勇 ;

王兴荣 .

中国专利 :CN120030618A ,2025-05-23

[6]

版图修正方法、存储介质和存储终端 [P].

林泽邦 ;

任堃 ;

高大为 ;

吴永玉 .

中国专利 :CN119126479A ,2024-12-13

[7]

版图修正方法、装置、设备及存储介质 [P].

石方毅 ;

曾辉 .

中国专利 :CN117348332A ,2024-01-05

[8]

版图修正方法、装置、设备及存储介质 [P].

石方毅 ;

曾辉 .

中国专利 :CN117348332B ,2024-02-02

[9]

图形修正方法、存储介质及存储终端 [P].

罗连波 .

中国专利 :CN120782694A ,2025-10-14

[10]

芯片版图的修正方法、介质、产品及设备 [P].

张生睿 ;

俞宗强 ;

施伟杰 .

中国专利 :CN120724951A ,2025-09-30

← 1 2 3 4 5 →