涂布装置、涂布方法、正极的制造方法及固体电池的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN202411936592.8
申请日
2024-12-26
公开(公告)号
CN120714853A
公开(公告)日
2025-09-30
发明(设计)人
池田秀河 堀江翼 米泽谕 吉田昇平 酒井宏 桥本达也 赤堀重人 镰田恒好 松本光平
申请人
本田技研工业株式会社
申请人地址
日本东京都港区
IPC主分类号
B05C5/02
IPC分类号
H01M4/04 B05D1/26
代理机构
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006
代理人
徐金国;吴启超
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
涂布装置、正极的制造方法及固体电池的制造方法 [P]. 
池田秀河 ;
堀江翼 ;
吉田昇平 ;
米泽谕 ;
酒井宏 ;
纐缬诚一 .
日本专利 :CN120714854A ,2025-09-30
[2]
涂布装置、涂布方法及电池制造设备 [P]. 
魏太池 ;
王儿子 ;
金鹏 ;
廖能武 ;
吴凯 .
中国专利 :CN119733653A ,2025-04-01
[3]
涂布液的涂布方法及涂布装置、以及涂布物的制造方法 [P]. 
细川敏嗣 ;
冈本启一 ;
山本悟 .
中国专利 :CN103249497B ,2013-08-14
[4]
涂布装置和涂布膜的制造方法 [P]. 
小松原诚 ;
三宅雅士 ;
守田佳史 .
中国专利 :CN105381925B ,2016-03-09
[5]
涂布装置和涂布膜的制造方法 [P]. 
三宅雅士 ;
道平创 .
中国专利 :CN112165992A ,2021-01-01
[6]
涂布方法以及涂布装置、显示器用部件的制造方法以及制造装置 [P]. 
林田健儿 ;
川竹洋 .
中国专利 :CN102039261A ,2011-05-04
[7]
光学元件、光学元件的制造方法、涂布装置及涂布方法 [P]. 
黑田敏裕 ;
近藤圆华 ;
吉野淳 ;
宫寺信生 .
中国专利 :CN100456063C ,2004-07-14
[8]
粘接剂涂布装置以及粘接剂涂布方法、转子的制造方法 [P]. 
石川雄治 ;
佐野博之 ;
五十岚义浩 .
中国专利 :CN114585449A ,2022-06-03
[9]
涂布装置和涂布膜的制造方法 [P]. 
小松原诚 ;
道平创 ;
三宅雅士 .
中国专利 :CN104722448B ,2015-06-24
[10]
涂布装置和涂布膜的制造方法 [P]. 
道平创 ;
三宅雅士 .
中国专利 :CN108686884B ,2018-10-23