电化学沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380008415.0

申请日：

2023-03-22

公开(公告)号：

CN119013439B

公开(公告)日：

2025-10-03

发明(设计)人：

李连松闫俊伟裴光辉任泽张国才董士豪

申请人：

京东方科技集团股份有限公司

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

IPC主分类号：

C25D17/02

IPC分类号：

C25D17/04 H01L21/00

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

李迎亚;彭瑞欣

法律状态：

授权

国省代码：

北京市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-03	授权	授权
2024-12-10	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C25D 17/02申请日:20230322
2024-11-22	公开	公开

共 50 条

[1]

电化学沉积设备 [P].

李连松 ;

闫俊伟 ;

裴光辉 ;

任泽 ;

张国才 ;

董士豪 .

中国专利 :CN119013439A ,2024-11-22

[2]

电化学沉积用阳极组件及电化学沉积设备 [P].

王成飞 ;

闫俊伟 ;

袁广才 ;

孙少东 ;

张国才 ;

董士豪 .

中国专利 :CN113737260A ,2021-12-03

[3]

电化学沉积设备组和电化学沉积方法 [P].

袁广才 ;

闫俊伟 ;

王成飞 ;

张国才 ;

董士豪 ;

孙少东 ;

齐琪 ;

曹占锋 .

中国专利 :CN112442725B ,2024-05-24

[4]

电化学沉积设备组和电化学沉积方法 [P].

袁广才 ;

闫俊伟 ;

王成飞 ;

张国才 ;

董士豪 ;

孙少东 ;

齐琪 ;

曹占锋 .

中国专利 :CN112442725A ,2021-03-05

[5]

一种射流电化学沉积装置、电化学沉积系统装置及电化学沉积方法 [P].

施利君 ;

胡磊 ;

蒋新 .

中国专利 :CN115323449A ,2022-11-11

[6]

水平式晶圆电化学沉积设备电化学沉积槽 [P].

祁志明 ;

李松松 ;

孙永胜 ;

李程 .

中国专利 :CN214937907U ,2021-11-30

[7]

用于电化学沉积的夹具以及电化学沉积装置和电化学沉积方法 [P].

汤洋 ;

郭逦达 ;

白安琪 ;

陈颉 .

中国专利 :CN105862112B ,2016-08-17

[8]

夹持机构及电化学沉积设备 [P].

祝福生 ;

魏红军 ;

夏楠君 ;

胡天水 ;

刘凯文 .

中国专利 :CN115287735B ,2025-06-24

[9]

一种电化学沉积设备 [P].

张军 ;

施利君 ;

陈书良 .

中国专利 :CN112981506A ,2021-06-18

[10]

电化学沉积夹具 [P].

金俊成 .

中国专利 :CN206783798U ,2017-12-22

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