基于研磨抛光参数的无介质全息光学元件加工工艺以及无介质全息光学元件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202511171454.X

申请日：

2025-08-21

公开(公告)号：

CN120742472A

公开(公告)日：

2025-10-03

发明(设计)人：

王侃张兵李俊

申请人：

江西像航科技有限公司像航（如东）科技有限公司像航（上海）科技有限公司

申请人地址：

330115 江西省南昌市赣江新区直管区中医药科创城博吾路266号2层2060

IPC主分类号：

G02B5/32

IPC分类号：

B24B1/00 B24B13/00

代理机构：

北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265

代理人：

黄琪

法律状态：

公开

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-03	公开	公开
2025-11-18	授权	授权
2025-10-24	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G02B 5/32申请日:20250821

共 50 条

[1]

基于研磨抛光参数的无介质全息光学元件加工工艺以及无介质全息光学元件 [P].

王侃 ;

张兵 ;

李俊 .

中国专利 :CN120742472B ,2025-11-18

[2]

全息光学元件的制备参数确定方法 [P].

张建超 .

中国专利 :CN120722564A ,2025-09-30

[3]

全息图记录介质、光学元件以及全息记录方法 [P].

张锡勋 ;

李玹燮 ;

金宪 ;

权洗铉 ;

张影来 .

中国专利 :CN110462734B ,2019-11-15

[4]

体全息光学元件的制备方法、体全息光学元件及显示模组 [P].

蒙道杨 ;

杨鑫 ;

侍强 .

中国专利 :CN117742118A ,2024-03-22

[5]

具有全息光学元件的HUD [P].

J.魏因加滕 .

中国专利 :CN103534632A ,2014-01-22

[6]

氟树脂及其制备方法、全息记录介质及全息光学元件 [P].

郭斌 ;

关健 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119735726A ,2025-04-01

[7]

增强全息光学元件光学效果的方法 [P].

刘立民 ;

吴远启 ;

封敏宇 ;

周赟 ;

蔡翔 ;

刘会涛 .

中国专利 :CN101706593A ,2010-05-12

[8]

氟树脂及其制备方法、全息记录介质及全息光学元件 [P].

郭斌 ;

关健 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119735725A ,2025-04-01

[9]

全息图介质和光学元件 [P].

金宪 ;

张锡勋 ;

权洗铉 ;

张影来 ;

边真锡 .

中国专利 :CN111279415A ,2020-06-12

[10]

基于全息光学元件的全息透镜4f光学系统 [P].

王琼华 ;

何岷阳 ;

邓欢 ;

张汉乐 ;

王勇 .

中国专利 :CN110196545A ,2019-09-03

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