分离膜、分离膜组件、气体分离方法、气体分离装置及分离膜的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480013309.6

申请日：

2024-03-27

公开(公告)号：

CN120769773A

公开(公告)日：

2025-10-10

发明(设计)人：

青山滋田口万里奈阿久津美句三原崇晃

申请人：

东丽株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

B01D71/26

IPC分类号：

B01D53/22 B01D63/02 B01D69/00 B01D69/02 B01D69/08 C08J7/00 C08J9/26 C08J9/36

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

马妮楠;段承恩

法律状态：

公开

国省代码：

天津市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-10	公开	公开
2025-10-28	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B01D 71/26申请日:20240327

共 50 条

[1]

气体分离膜、气体分离膜组件及气体分离膜的制造方法 [P].

柿山创 ;

三原崇晃 .

中国专利 :CN115697539A ,2023-02-03

[2]

气体分离膜、气体分离膜元件、气体分离装置和气体分离方法 [P].

高桥里奈 ;

佐藤一树 ;

小岩雅和 ;

佐佐木崇夫 .

中国专利 :CN110662598A ,2020-01-07

[3]

气体分离装置、气体分离方法及气体分离膜 [P].

野田宪一 .

中国专利 :CN111699032B ,2020-09-22

[4]

气体分离膜和气体分离装置、以及气体分离膜的制造方法 [P].

川良健祐 ;

饭塚航平 ;

横藤田敏之 ;

片仓史郎 ;

安达龙彦 .

日本专利 :CN120571424A ,2025-09-02

[5]

气体分离膜、气体分离装置、气体分离膜的制造方法以及分析方法 [P].

横藤田敏之 ;

川良健祐 ;

饭冢航平 ;

安达龙彦 ;

片仓史郎 .

日本专利 :CN120091857A ,2025-06-03

[6]

气体分离膜组件及气体分离方法 [P].

金筑丰 ;

福田叙彦 ;

谷原望 ;

中村智英 .

中国专利 :CN102527241A ,2012-07-04

[7]

气体分离膜元件、气体分离膜模块及气体分离装置 [P].

田崎努 ;

古川信一 .

中国专利 :CN109789369A ,2019-05-21

[8]

气体分离膜、气体分离膜的制造方法 [P].

鹤贝嘉则 .

日本专利 :CN120679363A ,2025-09-23

[9]

气体分离膜及气体分离膜的制造方法 [P].

堀内雄太 ;

宫泽弘 ;

松本康享 ;

岩上欧史 ;

高津直树 .

日本专利 :CN117917263A ,2024-04-23

[10]

气体分离膜的制造方法及气体分离膜 [P].

高城寿雄 ;

清水恭 ;

村田克之 ;

金子克美 ;

库克巴拉多分 .

中国专利 :CN115023281A ,2022-09-06

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