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活性物质的制造方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202180018680.8
申请日：
2021-03-03
公开(公告)号：
CN115210937B
公开(公告)日：
2025-10-03
发明(设计)人：
岛野哲
申请人：
住友化学株式会社
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
H01M10/54
IPC分类号：
H01M4/505 H01M4/525 H01M4/58
代理机构：
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人：
张楠
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-10-03 授权 授权
共 50 条
[1]
正极活性物质的制造方法 [P]. 
门马洋平 ;
落合辉明 ;
三上真弓 ;
町川一仁 ;
齐藤丞 .
中国专利 :CN113597410A ,2021-11-02
[2]
活性物质的制造方法 [P]. 
佐野笃史 ;
大槻佳太郎 ;
宫木阳辅 ;
高桥毅 ;
樋口章二 .
中国专利 :CN101841026A ,2010-09-22
[3]
活性物质的制造方法 [P]. 
保科圭吾 ;
原田康宏 ;
伊势一树 ;
高见则雄 .
中国专利 :CN105990570B ,2016-10-05
[4]
正极活性物质的制造方法、正极活性物质、正极和锂离子二次电池 [P]. 
酒井智弘 .
中国专利 :CN108432001B ,2018-08-21
[5]
正极活性物质的制造方法和正极活性物质 [P]. 
德田洋介 .
日本专利 :CN118255397A ,2024-06-28
[6]
电极活性物质的制造方法 [P]. 
山村英行 .
中国专利 :CN102859760A ,2013-01-02
[7]
正极活性物质的制造方法 [P]. 
门马洋平 ;
落合辉明 ;
三上真弓 ;
斉藤丞 ;
高桥正弘 .
中国专利 :CN113646265A ,2021-11-12
[8]
正极活性物质的制造方法 [P]. 
门马洋平 ;
落合辉明 ;
三上真弓 ;
斉藤丞 ;
高桥正弘 .
日本专利 :CN119330419A ,2025-01-21
[9]
正极活性物质的制造方法 [P]. 
门马洋平 ;
落合辉明 ;
三上真弓 ;
斉藤丞 ;
高桥正弘 .
日本专利 :CN119330415A ,2025-01-21
[10]
正极活性物质的制造方法 [P]. 
门马洋平 ;
落合辉明 ;
三上真弓 ;
斉藤丞 ;
高桥正弘 .
日本专利 :CN119330418A ,2025-01-21
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