低い残留モノマー含有量を有するアルキル（メタ）アクリレートのホモポリマーおよびコポリマーを製造する方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20230537080

申请日：

2021-12-17

公开(公告)号：

JP7742413B2

公开(公告)日：

2025-09-19

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C08F2/00

IPC分类号：

C08F220/18 C08L33/08 C08L91/00 C10M101/02 C10M105/32 C10M107/02 C10M145/14

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

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共 50 条

[1]

低い残留モノマー含有量を有するアルキル（メタ）アクリレートのホモポリマーおよびコポリマーを製造する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023554452A ,2023-12-27

[2]

アクリル酸ポリマーを製造する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019508540A ,2019-03-28

[3]

アルデヒド基を有するポリマー[ja] [P].

日本专利 :JP2025521996A ,2025-07-10

[4]

高い含有量のポリヒドロキシアルカノエートポリマーまたはコポリマーを有するフィルターを備えるエアロゾル発生要素[ja] [P].

日本专利 :JP2023505462A ,2023-02-09

[5]

高い含有量のポリヒドロキシアルカノエートポリマーまたはコポリマーを有するフィルターを備えるエアロゾル発生要素[ja] [P].

日本专利 :JP7583807B2 ,2024-11-14

[6]

ポリマー可塑剤及び低含有量のジイソシアネートモノマーを有するポリウレタン組成物[ja] [P].

日本专利 :JP7437380B2 ,2024-02-22

[7]

ポリマー可塑剤及び低含有量のジイソシアネートモノマーを有するポリウレタン組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2021533221A ,2021-12-02

[8]

ポリマー及びポリマーの製造方法[ja] [P].

OKAMOTO MIO ;

KOJO YUYA ;

TAMITSUJI SHINYA ;

NIHEI SATOSHI .

日本专利 :JP2023175398A ,2023-12-12

[9]

ポリマーセメントモルタル組成物及びポリマーセメントモルタル[ja] [P].

MORI YOICHI .

日本专利 :JP2024145051A ,2024-10-15

[10]

メタクリレートモノマーをベースとする組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2022526354A ,2022-05-24

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