耐热正性光刻胶以及形成光刻胶图案的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410245582.3

申请日：

2020-08-27

公开(公告)号：

CN120762253A

公开(公告)日：

2025-10-10

发明(设计)人：

何珂戈士勇

申请人：

江苏中德电子材料科技有限公司

申请人地址：

214400 江苏省无锡市江阴市科达路33号

IPC主分类号：

G03F7/039

IPC分类号：

G03F7/00 G03F7/004

代理机构：

无锡义海知识产权代理事务所(普通合伙) 32247

代理人：

张春合

法律状态：

公开

国省代码：

江苏省无锡市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-10	公开	公开

共 50 条

[1]

高耐热正性光刻胶以及形成光刻胶图案的方案 [P].

陆水忠 ;

戈士勇 ;

何珂 .

中国专利 :CN112114497B ,2024-02-20

[2]

高耐热正性光刻胶以及形成光刻胶图案的方案 [P].

陆水忠 ;

戈士勇 ;

何珂 .

中国专利 :CN112114497A ,2020-12-22

[3]

显影完全正性光刻胶以及形成光刻胶图案的方法 [P].

何珂 ;

戈士勇 .

中国专利 :CN118192170A ,2024-06-14

[4]

正性光刻胶 [P].

徐亮 ;

季昌彬 .

中国专利 :CN107728427A ,2018-02-23

[5]

一种正性光刻胶组合物以及形成光刻胶图案的方法 [P].

刘玉婧 ;

吴世泰 ;

贺峥杰 .

中国专利 :CN119335815A ,2025-01-21

[6]

正性光刻胶 [P].

唐谦 ;

M·劳斯 .

中国专利 :CN1075638C ,1996-04-24

[7]

一种正性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN111538210A ,2020-08-14

[8]

一种光刻胶组合物以及形成光刻胶图案的方法 [P].

汤红英 ;

吴世泰 ;

徐普 .

中国专利 :CN120540005A ,2025-08-26

[9]

正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法、光刻工艺 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN114460810A ,2022-05-10

[10]

一种紫外正性光刻胶 [P].

宋振 ;

杨志锋 ;

黄顺礼 ;

陆煜东 ;

郑安丽 ;

许振良 ;

林柳武 .

中国专利 :CN109062008B ,2018-12-21

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