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自动分析系统、控制装置及清洗方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202080094146.0
申请日
:
2020-11-06
公开(公告)号
:
CN115004039B
公开(公告)日
:
2025-09-30
发明(设计)人
:
森高通
龟山大树
伊藤匠
高桥健一
大泷智正
申请人
:
株式会社日立高新技术
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G01N35/10
IPC分类号
:
代理机构
:
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
:
许静;范胜杰
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-09-30
授权
授权
共 50 条
[1]
自动分析系统、控制装置及清洗方法
[P].
森高通
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森高通
;
龟山大树
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龟山大树
;
伊藤匠
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伊藤匠
;
高桥健一
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高桥健一
;
大泷智正
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大泷智正
.
中国专利
:CN115004039A
,2022-09-02
[2]
清洗装置及自动分析装置
[P].
鹤田博士
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鹤田博士
.
中国专利
:CN101632025A
,2010-01-20
[3]
自动分析装置及探针的清洗方法
[P].
森高通
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森高通
;
野岛彰纮
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野岛彰纮
;
山崎功夫
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山崎功夫
.
中国专利
:CN112470008A
,2021-03-09
[4]
自动分析装置及探针的清洗方法
[P].
森高通
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
森高通
;
野岛彰纮
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
野岛彰纮
;
山崎功夫
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
山崎功夫
.
日本专利
:CN112470008B
,2024-08-13
[5]
自动分析装置及清洗方法
[P].
村松由规
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村松由规
;
安居晃启
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安居晃启
;
铃木庆弘
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铃木庆弘
;
有贺洋一
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有贺洋一
.
中国专利
:CN108700610B
,2018-10-23
[6]
自动分析装置和清洗方法
[P].
深谷昌史
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
深谷昌史
;
平野匡章
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
平野匡章
;
安居晃启
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
安居晃启
.
日本专利
:CN112639487B
,2024-03-08
[7]
自动分析装置和清洗方法
[P].
深谷昌史
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深谷昌史
;
平野匡章
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平野匡章
;
安居晃启
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安居晃启
.
中国专利
:CN112639487A
,2021-04-09
[8]
自动分析装置及自动分析方法
[P].
伊藤匠
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伊藤匠
;
东信二
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东信二
;
深谷昌史
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深谷昌史
.
中国专利
:CN110036296A
,2019-07-19
[9]
自动分析装置、自动分析系统和自动分析方法
[P].
稻边利幸
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稻边利幸
;
牧野彰久
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牧野彰久
;
足立作一郎
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足立作一郎
;
薮谷千枝
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薮谷千枝
.
中国专利
:CN107923853A
,2018-04-17
[10]
自动分析装置、自动分析系统及样品的自动分析方法
[P].
深谷昌史
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深谷昌史
;
安居晃启
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安居晃启
.
中国专利
:CN113287022A
,2021-08-20
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